[发明专利]氧化锌微-纳结构薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种氧化锌微-纳结构薄膜，包括衬底和其上覆有的由氧化锌片簇组成的薄膜，其特征在于：

所述衬底为导电衬底；

所述薄膜的膜厚为18～22μm；

所述氧化锌片簇的直径为4～15μm，其由氧化锌片交叉或折连站立组成；

所述氧化锌片的片长为1～15μm、片厚为70～210nm，其由氧化锌颗粒构成；

所述氧化锌颗粒的粒径为20～50nm。

2.根据权利要求1所述的氧化锌微-纳结构薄膜，其特征是导电衬底为金属钛片，或金属金片，或金属银片，或不锈钢片。

3.一种权利要求1所述氧化锌微-纳结构薄膜的制备方法，包括电化学沉积法，其特征在于完成步骤如下：

先将导电衬底置于浓度为0.18～0.22mol/L的硝酸锌溶液中，以其为阴极、石墨片为阳极，于恒定电流密度为0.26～0.30mA/cm²下电沉积30～60min，得到其上覆有中间产物的导电衬底，再将其上覆有中间产物的导电衬底置于300～500℃下退火至少2h，制得氧化锌微-纳结构薄膜。

4.根据权利要求3所述的氧化锌微-纳结构薄膜的制备方法，其特征是导电衬底为金属钛片，或金属金片，或金属银片，或不锈钢片。

5.根据权利要求4所述的氧化锌微-纳结构薄膜的制备方法，其特征是在电沉积之前，先将导电衬底依次置于丙酮、无水乙醇和去离子水中各超声清洗10min，再对其使用去离子水反复清洗后晾干。

6.根据权利要求5所述的氧化锌微-纳结构薄膜的制备方法，其特征是电沉积时的温度为22～30℃。

7.根据权利要求6所述的氧化锌微-纳结构薄膜的制备方法，其特征是退火前，先使用去离子水冲洗去除中间产物上残留的硝酸锌溶液。

8.根据权利要求7所述的氧化锌微-纳结构薄膜的制备方法，其特征是退火的时间为2～3h。