[发明专利]一种等离子体共聚合制备高性能阴离子交换膜的方法无效

专利信息
申请号: 201110313559.6 申请日: 2011-10-17
公开(公告)号: CN102336922A 公开(公告)日: 2012-02-01
发明(设计)人: 张呈旭;胡觉;孟月东;王祥科 申请(专利权)人: 中国科学院等离子体物理研究所
主分类号: C08J7/12 分类号: C08J7/12;C08J5/22;C08F226/06;C08F212/14;C08F2/52;C08F8/44;H01M2/16
代理公司: 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 代理人: 余成俊
地址: 230031 安徽*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 等离子体 聚合 制备 性能 阴离子 交换 方法
【权利要求书】:

1.一种等离子体共聚合制备高性能阴离子交换膜的方法,其特征在于包括以下步骤:

(1)反应腔体抽真空,通反应气至反应器,使腔内压强达20-22Pa,持续4-5 min;

(2)调节反应气流量,使腔体内压强值为10Pa并恒定2-3min,分别通入单体1和单体2,腔体内总压强为40-80 Pa,控制气体流量,使单体1与单体2的分压比为(0.1-10):1,调节射频电源,放电功率为20-60 W,等离子体聚合反应1-6 h,制得等离子体共聚合阴离子交换膜;

(3)将步骤(2)制得的阴离子交换膜浸泡于1-2 mol/L 碱溶液中,浸泡时间12-60 h,碱化好后将膜取出,去离子水洗涤、浸泡,即得到碱性阴离子交换膜;

所述的单体1选自乙烯基吡啶、三甲胺中的一种,所述的单体2为氯苄基乙烯,所述反应气为氩气、氦气、氮气、氢气中的一种。

2.根据权利要求1所述的等离子体共聚合制备高性能阴离子交换膜的方法,其特征在于:所述碱溶液选自碱金属氢氧化物溶液、碱土金属氢氧化物溶液中的一种。

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