[发明专利]一种用化学修饰固态纳米孔阵列分离溶液中杂质的方法

权利要求书

1.一种用化学修饰固态纳米孔阵列分离溶液中杂质的方法，其特征在于，所述固态纳米孔阵列的面积不小于250μm²，单个纳米孔直径为1～200nm，孔密度不小于1个/μm²，孔内壁修饰有6-28bp的核酸分子、抗原分子、60-200kDa的抗体分子、50-200kDa的蛋白质分子、含6-50个氨基酸的肽分子、硅烷分子)中的一种或两种以上的任意比例的混合物，使1-50μl含浓度为1-10nmol·ml^-1杂质分子或1μg/ml以下的杂质颗粒的溶液通过所述固态纳米孔阵列时，杂质分子或颗粒被化学修饰的纳米孔阵列所截留，所述硅烷分子的结构式为Y(CH₂)_nSiX_mZ_3-m，其中，n＝0～3；m＝0～3，X和Z各自独立的为氯基、甲氧基、乙氧基或甲氧基乙氧基；Y为乙烯基、氨基、环氧基、巯基或脲基。

2.如权利要求1所述的用化学修饰固态纳米孔阵列分离溶液中杂质的方法，其特征在于，单个纳米孔直径为10-50nm，纳米孔阵列修饰有γ-氨丙基甲基二乙氧基硅烷，在偏置电压驱动下，溶液通过所述固态纳米孔阵列时，粒径大于纳米孔有效孔径的杂质被截留。

3.如权利要求1所述的用化学修饰固态纳米孔阵列分离溶液中特异杂质的方法，其特征在于，单个纳米孔直径为1～180nm，通过对纳米孔阵列两面加载偏置电压，溶液中的杂质分子在电场作用下泳动至纳米孔附近并与孔内壁修饰的分子结合并被截留，从而无法通过纳米孔阵列进入到另外一侧的溶液中，实现杂质的特异性分离。