[发明专利]含铜氧化物的形成方法无效

专利信息
申请号: 201110310770.2 申请日: 2011-10-14
公开(公告)号: CN102951670A 公开(公告)日: 2013-03-06
发明(设计)人: 陈庆盛 申请(专利权)人: 旭德科技股份有限公司
主分类号: C01G3/02 分类号: C01G3/02
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 封新琴
地址: 中国台湾新竹县*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 氧化物 形成 方法
【权利要求书】:

1.一种含铜氧化物的形成方法,包括:

提供静态型混合搅拌装置,该静态性混合搅拌装置具有第一流体注入口、第二流体注入口、搅拌本体以及流体输出口,其中该第一流体注入口、该第二流体注入口、该搅拌本体以及该流体输出口相互连通;

提供含铜离子酸性或碱性溶液;

提供可还原铜的溶液;以及

分别将该含铜离子酸性或碱性溶液及该可还原铜的溶液注入该第一流体注入口以及该第二流体注入口,并通过该搅拌本体搅拌该含铜离子酸性或碱性溶液及该可还原铜的溶液,而在该流体输出口形成含铜氧化物。

2.如权利要求1所述的含铜氧化物的形成方法,其中该含铜离子酸性或碱性溶液包括硫酸铜溶液、氯化铜溶液、氨铜离子溶液或醋酸铜溶液。

3.如权利要求1所述的含铜氧化物的形成方法,其中该可还原铜的溶液包括氢氧化钠溶液、碳酸钠溶液、碳酸氢铵溶液、氨水、尿素溶液或硼氢化钠的溶液。

4.如权利要求1所述的含铜氧化物的形成方法,其中该含铜氧化物包括氧化铜、氧化亚铜或碱式碳酸铜。

5.如权利要求1所述的含铜氧化物的形成方法,还包括提供另一种可还原铜的溶液,该另一种可还原铜的溶液包括氢氧化钠溶液、碳酸钠溶液、碳酸氢铵溶液、氨水、尿素溶液或硼氢化钠溶液,其中该静态型混合搅拌装置包括第三流体注入口,而分别将该含铜离子酸性或碱性溶液、该可还原铜的溶液以及该另一种可还原铜的溶液注入该第一流体注入口以及该第二流体注入口与该第三流体注入口。

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