[发明专利]照明光学系统、曝光设备、光学元件和装置制造方法

权利要求书

1.一种照明光学系统，其在来自光源的光线的基础上对要照明的表面进行照明，其特征在于所述照明光学系统包含：

第一光学路径，衍射光学元件可布置于其中的第一位置处；

第二光学路径，具有二维地形成阵列且个别地加以控制的多个光学元件的空间光调制器可布置于其中的第二位置处；以及

第三光学路径，其为已通过所述第一光学路径和所述第二光学路径中的至少一者的光线的光学路径，且一种分布形成光学系统布置于其中；

其中所述分布形成光学系统基于已通过所述第一光学路径和所述第二光学路径中的至少一者的光线而在位于所述第三光学路径中的照明光瞳上形成预定的光强度分布。

2.根据权利要求1所述的照明光学系统，其特征在于其中所述第二位置为与所述第一位置相同的位置或与所述第一位置光学共轭的位置。

3.根据权利要求1或2所述的照明光学系统，其特征在于其包含选择器以用于在来自所述光源的所述光线被导向布置于所述第一光学路径中的所述衍射光学元件时所经由的光学路径与来自所述光源的所述光线被导向布置于所述第二位置处的所述空间光调制器时所经由的光学路径之间切换。

4.根据权利要求3所述的照明光学系统，其特征在于其中所述选择器将平面镜面或棱镜镜面插入到所述第二位置处或使平面镜面或棱镜镜面从所述第二位置缩回，由此来实施对所述光学路径的选择。

5.根据权利要求3所述的照明光学系统，其特征在于其中所述选择器包含反射镜，所述反射镜可插入于紧接所述空间光调制器之前的位置处或从紧接所述空间光调制器之前的位置缩回。

6.一种照明光学系统，其在来自光源的光线的基础上对要照明的表面照明，其特征在于所述照明光学系统包含：

空间光调制器，其具有二维地形成阵列且个别地加以控制的多个光学元件；以及

分布形成光学系统，其基于已通过所述空间光调制器的光线而在照明光瞳上形成预定的光强度分布；

其中所述空间光调制器的所述多个光学元件选择性地位于所述照明光学系统的光学路径中的位置与所述照明光学系统的所述光学路径外的位置之间。

7.根据权利要求6所述的照明光学系统，其特征在于其中所述空间光调制器可插入到所述照明光学系统的所述光学路径中或从所述照明光学系统的所述光学路径缩回。

8.根据权利要求6所述的照明光学系统，其特征在于其包含反射表面，所述反射表面经布置以使得其可插入于所述空间光调制器的所述多个光学元件的入射侧上或从所述空间光调制器的所述多个光学元件的入射侧缩回。

9.一种照明光学系统，其在来自光源的光线的基础上对要照明的表面照明，其特征在于所述照明光学系统包含：

衍射光学元件，其可插入于所述照明光学系统的光学路径中的第一位置处；

空间光调制器，其具有二维地形成阵列且个别地加以控制的多个光学元件，所述空间光调制器可插入于所述第一位置处或与所述第一位置成光学共轭的第二位置处；以及

分布形成光学系统，其基于已通过所述衍射光学元件和所述空间光调制器中的至少一者的光线而在照明光瞳上形成预定的光强度分布。

10.根据权利要求9所述的照明光学系统，其特征在于其中所述空间光调制器可由所述第二位置处的平面镜面或棱镜镜面来替换。

11.根据权利要求10所述的照明光学系统，其特征在于其包含路径折叠反射镜，所述路径折叠反射镜布置于紧接所述空间光调制器之前且将到所述空间光调制器的光线的入射角度设置为不大于预定角度。

12.根据权利要求10所述的照明光学系统，其特征在于其包含布置于所述光源与所述空间光调制器之间的光学路径中的偏振射束分裂器，和布置于所述偏振射束分裂器与所述空间光调制器之间的光学路径中的四分之一波片，其中入射到所述偏振射束分裂器的光线被导引通过所述四分之一波片、所述空间光调制器、所述四分之一波片和所述偏振射束分裂器而到所述要照明的表面。

13.根据权利要求9到12中任一权利要求所述的照明光学系统，其特征在于其包含控制单元，所述控制单元控制所述衍射光学元件和所述空间光调制器中的至少一者在所述光学路径中的布置。