[发明专利]一种预清洗方法及等离子体设备

权利要求书

1.一种预清洗方法，主要用于通过等离子体预清洗反应腔室内的载板和电极板，其特征在于，在预清洗所述载板时，将所述载板接负偏压，以使所述反应腔室内的等离子体靠近所述载板；在预清洗所述电极板时，将所述载板接正偏压，以使所述反应腔室内的等离子体靠近所述电极板。

2.根据权利要求1所述的预清洗方法，其特征在于，在进行所述预清洗后，将所述载板接地，等离子体均匀地分布在载板与电极板之间的区域，用于在放置在载板上的被加工工件的表面沉积SiN减反膜。

3.根据权利要求1所述的预清洗方法，其特征在于，所述等离子体是由远程等离子体系统产生的等离子体与原位预清洗气体产生的等离子体的混合。

4.根据权利要求3所述的预清洗方法，其特征在于，所述远程等离子体系统与所述原位清洗所用的预清洗气体同时启辉。

5.根据权利要求3所述的预清洗方法，其特征在于，所述预清洗气体为NF₃。

6.一种等离子体设备，包括反应腔室，在所述反应腔室的底部的内侧设有载板，在所述反应腔室顶部的内侧设有电极板，其特征在于，所述载板与直流电源连接，并且在预清洗载板时，所述载板与所述直流电源的负极连接；在预清洗所述电极板时，所述载板与所述直流电源的正极连接。

7.根据权利要求6所述的等离子体设备，其特征在于，所述载板还与大地连接。

8.根据权利要求7所述的等离子体设备，其特征在于，在所述载板与所述直流电源之间设有选择开关，借助所述选择开关使所述载板与所述直流电源的正极、负极或与地连接。

9.根据权利要求8所述的等离子体设备，其特征在于，所述选择开关为继电器。

10.根据权利要求6所述的等离子体设备，其特征在于，在所述载板与所述直流电源之间设有射频过滤器。

11.根据权利要求6所述的等离子体设备，其特征在于，在所述反应腔室顶端的外侧设有远程等离子体系统，在所述电极板上设有匀流孔，预清洗气体自所述电极板上的匀流孔内进入所述反应腔室。

12.根据权利要求6所述的等离子体设备，其特征在于，所述电极板通过匹配器与射频电源连接。

13.根据权利要求7所述的等离子体设备，其特征在于，所述载板通过支撑柱与直流电源的正极、负极或与地连接；

其中，所述载板以及支撑柱均采用导电材料制成；

在所述载板和支撑柱的接触位置设有接地片，用以使载板与支撑柱保持地电连接。