[发明专利]一种改良的多晶硅太阳电池变温扩散工艺的方法无效
申请号: | 201110298214.8 | 申请日: | 2011-10-08 |
公开(公告)号: | CN103035776A | 公开(公告)日: | 2013-04-10 |
发明(设计)人: | 周艺;肖斌;黄岳文;何文红;郭长春;欧衍聪;李荡;黄燕 | 申请(专利权)人: | 长沙理工大学 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 410114 湖南省*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 改良 多晶 太阳电池 扩散 工艺 方法 | ||
1.一种改良的多晶硅太阳电池变温扩散工艺的方法,其步骤主要分为以下六步:1)将硅片放入扩散炉中,将温度控制在810℃~820℃,再通入25000sccm的大氮和3000sccm干氧,通入时间为300s;2)进行扩散,将温度控制在810℃~820℃,再通入25000sccm的大氮,1200sccm的干氧和1500sccm的小氮,通入时间控制在600s;3)进行升温处理,将温度升到860℃~870℃,并通入大氮和干氧,升温时间为300s;4)进行深扩散,将温度控制在860℃~870℃,再通入25000sccm的大氮,1200sccm的干氧和1500sccm的小氮,扩散时间为1300s;5)饱和:通入25000sccm的大氮和2000sccm的干氧,其中通入时间为500s;6)进行降温处理,将硅片取出。
2.根据权利要求1所述的工艺方法,其特征在于步骤(2)和(4)小氮和干氧流量比,以及(3)中增加了一步升温过程。
3.权利要求1中一种改良的多晶硅太阳电池变温扩散工艺的方法,其应用在晶硅太阳电池扩散工艺中,具有良好效果。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的