[发明专利]一种用于总义齿和局部义齿颌记录的基托型蜡无效
| 申请号： | 201110297799.1 | 申请日： | 2011-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN102366334A | 公开（公告）日： | 2012-03-07 |
| 发明（设计）人： | 邢旭东 | 申请（专利权）人： | 邢旭东 |
| 主分类号： | A61C13/34 | 分类号： | A61C13/34 |
| 代理公司： | 天津盛理知识产权代理有限公司 12209 | 代理人： | 董一宁 |
| 地址： | 301900*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 义齿 局部 记录 基托型蜡 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于总义齿和局部义齿颌记录的基托型蜡，其特征在于：由上颌基托型蜡、下颌基托型蜡、上颌蜡堤和下颌蜡堤组成；上颌基托型蜡和下颌基托型蜡均是按人类口腔解剖形态制成的弓槽形结构，上颌蜡堤和下颌蜡堤均是按人类牙列生理解剖形态制成的弓形结构。
2.根据权利要求1所述的一种用于总义齿和局部义齿颌记录的基托型蜡，其特征在于：上述上颌基托型蜡和下颌基托型蜡咬合面一侧为平面，另一侧面为槽形。
3.根据权利要求1所述的一种用于总义齿和局部义齿颌记录的基托型蜡，其特征在于：上述上颌蜡堤和下颌蜡堤均为前窄后宽的弓形结构。
4.根据权利要求1或3所述的一种用于总义齿和局部义齿颌记录的基托型蜡，其特征在于：上述上颌蜡堤和下颌蜡堤的唇、颊侧和舌侧间具有多排横向贯通的孔。
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