[发明专利]一种微光、激光透射且中红外光反射膜及棱镜、制备方法

权利要求书

1.一种微光、激光透射且中红外光反射膜，其特征在于，该膜由23层膜层组成，属部分层优化的周期性对称膜系结构，奇数膜层的膜料均为氟化镁，偶数膜层的膜料均为硫化锌，第1层膜层和第23层膜层的光学厚度是833nm，第2层膜层和第22层膜层的光学厚度是1196nm，第3层膜层、第5层膜层、第7层膜层、第9层膜层、第11层膜层、第13层膜层、第15层膜层、第17层膜层、第19层膜层、第21层膜层的光学厚度为1437nm，第4层膜层、第6层膜层、第8层膜层、第10层膜层、第12层膜层、第14层膜层、第16层膜层、第18层膜层、第20层膜层的光学厚度为1163nm。

2.一种微光、激光透射且中红外光反射的棱镜，其特征在于，包括胶合棱镜基底，在胶合棱镜基底的表面镀制有微光、激光透射且中红外光反射膜，所述微光、激光透射且中红外光反射膜由23层膜层组成，直接镀制在胶合棱镜基底表面的膜层为第1层膜层，在第1层膜层上依次镀制有第2层膜层～第23层膜层；奇数膜层的膜料均为氟化镁，偶数膜层的膜料均为硫化锌；第1层膜层和第23层膜层的光学厚度是833nm，第2层膜层和第22层膜层的光学厚度是1196nm，第3层膜层、第5层膜层、第7层膜层、第9层膜层、第11层膜层、第13层膜层、第15层膜层、第17层膜层、第19层膜层、第21层膜层的光学厚度为1437nm，第4层膜层、第6层膜层、第8层膜层、第10层膜层、第12层膜层、第14层膜层、第16层膜层、第18层膜层、第20层膜层的光学厚度为1163nm。

3.根据权利要求2所述的微光、激光透射且中红外光反射的棱镜，其特征在于，所述胶合棱镜基底为45°氟化钙材质胶合棱镜基底。

4.一种权利要求2或3所述的微光、激光透射且中红外光反射的棱镜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

（1）预处理胶合棱镜基底

使用脱脂棉蘸醇醚混合液对胶合棱镜基底表面进行清洁处理，之后将胶合棱镜基底夹持在夹具上并放入真空室内，抽真空到真空度高于1×10^-2Pa时，升温加热基底到140℃～160℃，升温时间不小于2小时，之后保温1～2小时，然后启动离子源并进行离子轰击，离子轰击时间为5～10分钟，关断离子源；

（2）在预处理过的胶合棱镜基底表面依次镀制第1层膜层～第23层膜层

a. 首先镀制第1层膜层：膜料采用氟化镁，将氟化镁膜料放到钼舟内，由电阻蒸发源进行蒸镀，蒸镀时真空度为3×10^-3Pa～1×10^-3Pa，蒸发速率为0.6nm/s～0.7nm/s，膜层厚度由光学膜厚仪控制，第1层膜层的光学厚度为833nm；

b. 镀制第2层膜层：膜料采用硫化锌，将硫化锌膜料放到钼舟内，由电阻蒸发源进行蒸镀，蒸镀时真空度为2×10^-3Pa～1×10^-3Pa，蒸发速率为0.7nm/s～0.8nm/s，光学膜厚仪控制膜层厚度，第2层膜层的光学厚度为1196nm；

c. 镀制第3层膜层：膜料采用氟化镁，将氟化镁膜料放到钼舟内，由电阻蒸发源进行蒸镀，蒸镀时真空度为3×10^-3Pa～1×10^-3Pa，蒸发速率为0.6nm/s～0.7nm/s，膜层厚度由光学膜厚仪控制，第3层膜层的光学厚度为1437nm；

d. 镀制第4层膜层：膜料采用硫化锌，将硫化锌膜料放到钼舟内，由电阻蒸发源进行蒸镀，蒸镀时真空度为2×10^-3Pa～1×10^-3Pa，蒸发速率为0.7nm/s～0.8nm/s，光学膜厚仪控制膜层厚度，第4层膜层的光学厚度为1163nm；

e. 依次镀制第5层膜层～第21层膜层：重复步骤c，镀制第5层膜层、第7层膜层、第9层膜层、第11层膜层、第13层膜层、第15层膜层、第17层膜层、第19层膜层和第21层膜层，第5层膜层、第7层膜层、第9层膜层、第11层膜层、第13层膜层、第15层膜层、第17层膜层、第19层膜层和第21层膜层的光学厚度均为1437nm；重复步骤d，镀制第6层膜层、第8层膜层、第10层膜层、第12层膜层、第14层膜层、第16层膜层、第18层膜层、第20层膜层，第6层膜层、第8层膜层、第10层膜层、第12层膜层、第14层膜层、第16层膜层、第18层膜层、第20层膜层的光学厚度均为1163nm；

f. 镀制第22层膜层：重复步骤b，镀制第22层膜层，第22层膜层的光学厚度为1196nm；

g. 镀制第23层膜层：重复步骤a，镀制第23层膜层，第23层膜层的光学厚度为833nm；

（3）膜层镀制完毕后再过5～8小时，待真空室内温度低于40℃时放气，取出，制得微光、激光透射且中红外光反射的棱镜。