[发明专利]玻璃基板与网版快速对位印刷的方法有效
| 申请号: | 201110296851.1 | 申请日: | 2011-09-30 |
| 公开(公告)号: | CN102431332A | 公开(公告)日: | 2012-05-02 |
| 发明(设计)人: | 蔡永梅;朱正响;张雄;樊兆雯;朱立锋;林青园 | 申请(专利权)人: | 南京华显高科有限公司 |
| 主分类号: | B41M1/12 | 分类号: | B41M1/12;B41M1/34 |
| 代理公司: | 南京天华专利代理有限责任公司 32218 | 代理人: | 夏平;瞿网兰 |
| 地址: | 210061 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 玻璃 快速 对位 印刷 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种等离子显示器的制造方法,尤其是等离子体显示器前后基板印刷时的对网方法,具体地说是一种玻璃基板与网版快速对位印刷的方法。
背景技术
目前,荫罩式等离子体显示板在其制作工艺中采用彩色阴极射线管CRT生产中常用的荫罩板即金属栅网板来替代等离子体显示板PDP中复杂的障壁制造,独立加工金属栅网板,并在其上制作荧光粉。荫罩式等离子体显示板主要包括前基板、后基板和荫罩。后基板包括后衬底玻璃基板,在后衬底玻璃基板上有寻址电极,在有寻址电极的后衬玻璃基板上形成介质层以及在介质层上形成保护层;前基板包括前衬底玻璃玻璃基板,在前衬底玻璃基板下表面形成与寻址电极垂直的扫描电极、在有扫描电极的前衬底玻璃基板上形成介质层以及在介质层表面形成保护层;夹在前、后基板中间的荫罩是由导电材料,例如铁或其合金加工而成的包含网孔阵列的金属薄网板。将上述前基板、荫罩和后基板组装封接后充入预定的工作气体,譬如各种惰性气体,以“三明治”的方式装配来制作整屏,即形成了荫罩式等离子体显示板。
在荫罩式等离子体显示板在其制作工艺中,很多工艺都用到印刷工艺,如寻址电极的制备,扫描电极的制备,介质层的制备,MgO保护层的制备等。特别在实验室中,网版和玻璃基板的形状千差万别,而玻璃基板透明和网版局部透明的特性使丝网印刷中对网效率很低,从而影响印刷结果,阻碍实验进程。
发明内容
本发明的目的就是针对丝网印刷中对网慢的问题,提供一种玻璃基板与网版快速对位的方法,在满足高工效、不污染网版,不损伤网版的要求下实现快速对网的方法。
一种玻璃基板与网版快速对位印刷的方法,其特征是它包括以下步骤:
a、浆料准备,将待印刷的浆料装入干净的搅拌盒搅拌、脱泡后得到浆料备用;
b、用清洗机清洗玻璃基板1;
c、设置丝印印刷机的印刷参数;
d、在丝印印刷机台面2中央部位用油性笔画出框架图形4,使所画的框架图形4与网版图形3的框架相匹配并略小;
f、根据所画的框架图形4的位置,把玻璃基板1放在对应的位置上,通过丝印印刷机台面2上的真空孔5将玻璃基板1吸住定位;
g、透过网版上镂空的部分图形3观察框架图形4的位置;手动调节网版图形3的位置,使网版图形3处于框架图形4的中央,然后将网版固定;
h、上浆料印刷实验片,根据误差手动调整玻璃基板1的位置;
i、重复上一步,直至实验片印刷的误差满足设定值,即可确定玻璃基板1的位置,然后用油性笔做好玻璃基板的位置标记;
k. 印刷正式片。
本发明的有益效果是:
本发明具有对位速度快,简单易行的优点,不会污染网版,不会损伤网版。
附图说明
图1是本发明的标记线示意图。
图2是本发明的基板对位示意图。
图3是本发明的对网原理示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明的内容作进一步的说明。
如图1、2、3所示。
一种玻璃基板与网版快速对位印刷的方法,它包括以下步骤:
a、浆料准备,将待印刷的浆料装入干净的搅拌盒搅拌、脱泡后得到浆料备用;
b、用清洗机清洗玻璃基板1;
c、设置丝印印刷机的印刷参数;
d、在丝印印刷机台面2中央部位用油性笔画出框架图形4,使所画的框架图形4与网版图形3的框架相匹配并略小;要示所画的框架图形4不仅清晰而且不易被擦抹掉;如图1,为了使所带的框架图形4不会对正式印刷形成影响,框架图形4在印刷机台面2上凸起的高度应小于1微米;
f、根据所画的框架图形4的位置,把玻璃基板1放在对应的位置上,通过丝印印刷机台面2上的真空孔5将玻璃基板1吸住定位;如图2所示;
g、透过网版上镂空的部分图形3观察框架图形4的位置;手动调节网版图形3的位置,使网版图形3处于框架图形4的中央,然后将网版固定;如图3所示;
h、上浆料印刷实验片,根据误差手动调整玻璃基板1的位置;
i、重复印刷实验片2-3遍,直至实验片印刷的误差满足设定值,即可确定玻璃基板1的位置,然后用油性笔做好玻璃基板1的位置标记;
k. 印刷正式片。印刷时只需将玻璃基板放在上面所做的标记处即可。
本发明未涉及部分均与现有技术相同或可采用现有技术加以实现。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京华显高科有限公司,未经南京华显高科有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110296851.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





