[发明专利]温度调变制作高效率三结基材型硅薄膜太阳能电池无效

专利信息
申请号: 201110295345.0 申请日: 2011-09-27
公开(公告)号: CN103022061A 公开(公告)日: 2013-04-03
发明(设计)人: 陈宏昌;刘幼海;刘吉人 申请(专利权)人: 吉富新能源科技(上海)有限公司
主分类号: H01L27/142 分类号: H01L27/142;H01L31/0352;H01L31/0392
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 201707 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 温度 制作 高效率 基材 薄膜 太阳能电池
【说明书】:

技术领域

发明关於一种温度调变制作高效率基材型三结硅薄膜太阳能电池, 其目的: 系将此设计充分吸收太阳光频谱,以提升硅薄膜太阳能电池效率。

背景技术

目前,在所有薄膜太阳能电池的开发中皆致力於提升太阳能电池的效率,以藉此降低薄膜太阳能电池的成本。业界关於硅薄膜太阳能电池的开发多为非晶硅薄膜,或是双结串联硅薄膜。其中非晶硅薄膜能隙为1.8电子伏特,双结串联硅薄膜则为能隙1.8电子伏特的非晶硅薄膜与能隙1.1电子伏特的微晶硅薄膜的串联组合,但此两者皆无法充份完全吸收太阳光频谱。

发明内容

本发明提供一种温度调变制作高效率基材型三结硅薄膜太阳能电池,此技术包括玻璃、第一透明导电层、金属背电极、第二透明导电层、高温N型微晶硅薄膜、高温I型微晶硅薄膜、高温P型微晶硅薄膜、高温N型非晶硅薄膜、高温I型非晶硅薄膜、高温P型非晶硅薄膜、低温N型非晶硅薄膜、低温I型非晶硅薄膜、低温P型非晶硅薄膜、第三透明导电层、金属电极。本发明可以此设计结构充份吸收太阳光频谱,进而提升硅薄膜太阳能效率。

兹将本发明配合附图,详细说明如下:请参阅第一图,为本发明之动作流程方块示意图。由图中可知,首先在玻璃上沉积第一透明导电层、金属背电极、第二透明导电层,接著沉积高温N型微晶硅薄膜、高温I型微晶硅薄膜、高温P型微晶硅薄膜,再接著高温N型非晶硅薄膜、高温I型非晶硅薄膜、高温P型非晶硅薄膜,再接著沉积低温N型非晶硅薄膜、低温I型非晶硅薄膜、低温P型非晶硅薄膜,最后为沉积透明导电层三、金属电极。

请参阅第二图,第二图是在玻璃上沉积第一透明导电层、金属背电极、第二透明导电层之示意图。在玻璃11上依续沉积第一透明导电层12、金属背电极13与第二透明导电层14。

请参阅第三图,第三图是沉积高温N型微晶硅薄膜、高温I型微晶硅薄膜、高温P型微晶硅薄膜之示意图。在第二透明导电层14上依续沉积高温N型微晶硅薄膜21、高温I型微晶硅薄膜22、高温P型微晶硅薄膜23。

请参阅第四图,第四图是沉积高温N型非晶硅薄膜、高温I型非晶硅薄膜、高温P型非晶硅薄膜之示意图。在高温P型微晶硅薄膜23上依续沉积高温N型非晶硅薄膜31、高温I型非晶硅薄膜32、高温P型非晶硅薄膜33。

请参阅第五图,第五图是沉积低温N型非晶硅薄膜、低温I型非晶硅薄膜、低温P型非晶硅薄膜之示意图。在高温P型非晶硅薄膜33上依续沉积低温N型非晶硅薄膜41、低温I型非晶硅薄膜42、低温P型非晶硅薄膜43。

请参阅第六图,第六图是沉积第三透明导电层、金属电极之示意图。在低温P型非晶硅薄膜43上依续沉积第三透明导电层51、金属电极52。

附图说明

下面结合附图与实施例对本发明进一步说明;第一图是本发明之动作流程方块示意图;第二图是在玻璃上沉积第一透明导电层、金属背电极、第二透明导电层之示意图;第三图是沉积高温N型微晶硅薄膜、高温I型微晶硅薄膜、高温P型微晶硅薄膜之示意图;第四图是沉积高温N型非晶硅薄膜、高温I型非晶硅薄膜、高温P型非晶硅薄膜之示意图;第五图是沉积低温N型非晶硅薄膜、低温I型非晶硅薄膜、低温P型非晶硅薄膜之示意图;第六图是沉积第三透明导电层、金属电极之示意图。

主要元件符号说明:11 … 玻璃12 … 第一透明导电层13 … 金属背电极14 … 第二透明导电层21 … 高温N型微晶硅薄膜22 … 高温I型微晶硅薄膜23 … 高温P型微晶硅薄膜31 … 高温N型非晶硅薄膜32 … 高温I型非晶硅薄膜33 … 高温P型非晶硅薄膜41 … 低温N型非晶硅薄膜42 … 低温I型非晶硅薄膜43 … 低温P型非晶硅薄膜51 … 第三透明导电层52 … 金属电极。

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