[发明专利]高纯度高细度石墨粉的制备方法及应用

权利要求书

1.一种高纯度高细度石墨粉的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

a）在室温下，使用射线照射石墨原料；

b）将步骤a）处理后得到的石墨原料进行研磨粉碎，得到高纯度高细度石墨粉。

2.根据权利要求1所述的高纯度高细度石墨粉的制备方法，其特征在于：步骤a）中所述射线为α射线、β射线、X射线、γ射线或者电子束。

3.根据权利要求2所述的高纯度高细度石墨粉的制备方法，其特征在于：步骤a）中所述射线为γ射线，所述γ射线的辐射功率为10～200KHz。

4.根据权利要求1所述的高纯度高细度石墨粉的制备方法，其特征在于，还包括如下步骤：

c）将所述步骤b）得到的石墨粉进行湿磨；

d）将经所述步骤c）湿磨后的石墨粉进行水洗、或酸洗、或碱洗、或有机溶剂洗。

5.根据权利要求4所述的高纯度高细度石墨粉的制备方法，其特征在于，还包括如下步骤：e）进一步研磨粉碎，对高纯度石墨粉的粒子进行整形，得到高纯度高细度石墨粉。

6.根据权利要求5所述的高纯度高细度石墨粉的制备方法，其特征在于：步骤b）和步骤e）中所述研磨粉碎采用机械研磨机或气流研磨机进行粉碎，或采用等离子粉碎方法、超声粉碎方法、电弧法粉碎方法、电爆法粉碎方法、爆炸法粉碎方法、融合机球化整形方法。

7.根据权利要求1至6所述的任一种制备方法制得的高纯度高细度石墨粉的应用，其特征在于：可用于涂料、塑料、橡胶、纤维、保温棉、电源和电池的制备。

8.一种高纯度高细度粉末的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

a）在室温下，使用射线照射粉末原料；

b）将步骤a）处理后得到的粉末原料用研磨机粉碎，得到高纯度高细度粉末；

所述粉末包括石墨粉、焦粉、炭黑、煤粉、活性炭。