[发明专利]电介质陶瓷组合物和其制造方法以及陶瓷电子部件无效
申请号: | 201110292195.8 | 申请日: | 2011-09-29 |
公开(公告)号: | CN102557615A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | 武田早织;佐藤文昭;佐藤淳;细野雅和 | 申请(专利权)人: | TDK株式会社 |
主分类号: | C04B35/468 | 分类号: | C04B35/468;C04B35/622;H01G4/12;H01G4/30 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 孙秀武;高旭轶 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电介质 陶瓷 组合 制造 方法 以及 电子 部件 | ||
1.电介质陶瓷组合物,其含有以通式ABO3表示且具有钙钛矿型结晶结构的化合物以及Y的氧化物,上述A为Ba一种、或者Ba与选自Ca和Sr的至少1种的组合,上述B为Ti一种、或者Ti与Zr的组合,其特征在于,上述电介质陶瓷组合物含有以上述化合物为主成分的电介质粒子,在使用表示上述化合物的原料粉末的平均粒径的d[nm]和表示上述原料粉末的上述钙钛矿型结晶结构中c轴的晶格常数与a轴的晶格常数的比值的c/a,并定义α=1000×(c/a)/d时,上述α为11.0以下。
2.权利要求1所述的电介质陶瓷组合物,其中,将上述电介质粒子的平均结晶粒径记作D[nm],使用上述d和上述D,并定义晶粒生长率[%]=(D/d)×100时,上述晶粒生长率为100~140%。
3.权利要求1或2所述的电介质陶瓷组合物,其中,上述电介质陶瓷组合物中存在含有上述Y的氧化物的偏析区域,相对于200μm2的视野面积,上述偏析区域所占的面积的比例为0.1~5.0%。
4.陶瓷电子部件,其具有由权利要求1~3中任一项所述的电介质陶瓷组合物形成的电介质层和电极。
5.电介质陶瓷组合物的制造方法,所述电介质陶瓷组合物含有以通式ABO3表示且具有钙钛矿型结晶结构的化合物以及Y的氧化物,上述A为Ba一种、或者Ba与选自Ca和Sr的至少1种的组合,上述B为Ti一种、或者Ti与Zr的组合,其特征在于,具有:准备包括上述化合物的原料粉末和上述Y的氧化物的原料的电介质原料的工序;将上述电介质原料成形,得到成形体的工序;和将上述成形体烧成的工序,其中在使用表示上述化合物的原料粉末的平均粒径的d[nm]和表示上述化合物的原料粉末的钙钛矿型结晶结构中c轴的晶格常数与a轴的晶格常数的比值的c/a,并定义α=1000×(c/a)/d时,上述α为11.0以下,并且在将上述成形体烧成的工序中,升温速度为600~8000℃/小时。
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