[发明专利]液晶取向膜和相位差薄膜的制造方法、以及液晶取向剂、液晶取向膜和相位差薄膜有效

专利信息
申请号: 201110291469.1 申请日: 2011-09-23
公开(公告)号: CN102419497A 公开(公告)日: 2012-04-18
发明(设计)人: 永尾隆 申请(专利权)人: JSR株式会社
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337;G02F1/1335;G02B5/30;C09K19/56
代理公司: 北京三幸商标专利事务所 11216 代理人: 刘激扬
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 液晶 取向 相位差 薄膜 制造 方法 以及
【权利要求书】:

1.一种液晶取向膜的制造方法,其具有下述工序:

(1)在透明薄膜上涂布液晶取向剂、形成涂膜的工序;

(2)对上述涂膜照射射线、使涂膜固化的工序;和

(3)对上述固化了的涂膜照射射线、赋予液晶取向能的工序。

2.根据权利要求1所述的液晶取向膜的制造方法,其中,上述液晶取向膜用于相位差薄膜。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的液晶取向膜的制造方法,其中,上述工序(2)中的射线是非偏光的紫外线,并且,是使上述工序(3)中的射线偏光的紫外线。

4.一种相位差薄膜的制造方法,其具有下述工序:

(1)在透明薄膜上涂布液晶取向剂、形成涂膜的工序;

(2)对上述涂膜照射射线、使涂膜固化的工序;

(3)对上述固化了的涂膜照射射线、赋予液晶取向能的工序;

(4)在上述液晶取向膜的至少一部分上涂布聚合性液晶的工序;和

(5)使上述聚合性液晶固化的工序。

5.根据权利要求4所述的相位差薄膜的制造方法,其中,上述工序(3)具有下述工序:

(3-1)在固化了的涂膜的一部分或全部上照射第一射线的工序;和

(3-2)在固化了的涂膜的一部分上照射具有与第一射线不同的入射方向或偏光方向的第二射线的工序。

6.根据权利要求5所述的相位差薄膜的制造方法,其中,上述工序(3-2)为(3-2’)至少在固化了的涂膜未被第一射线照射的部分上照射上述第二射线的工序。

7.根据权利要求4、5或6所述的相位差薄膜的制造方法,其中,上述工序(2)中的射线是非偏光的紫外线,且是使上述工序(3)中的射线偏光的紫外线。

8.一种液晶取向剂,用于权利要求1~权利要求7任一项所述的制造方法,其含有[A]具有光取向性基团的聚有机硅氧烷和[B]光固化催化剂。

9.根据权利要求8所述的液晶取向剂,其中,上述光取向性基团是具有肉桂酸结构的基团。

10.根据权利要求9所述的液晶取向剂,其中,具有上述肉桂酸结构的基团为从来自下述式(1)所示的化合物的基团和来自式(2)所示的化合物的基团构成的群组中选出的至少一种,

式(1)中,R1是亚苯基、亚联苯基、亚三联苯基或亚环己基,该亚苯基、亚联苯基、亚三联苯基或亚环己基的氢原子的一部分或全部可以被碳原子数为1~10的烷基、可具有氟原子的碳原子数为1~10的烷氧基、氟原子或氰基取代;R2是单键、碳原子数为1~3的链烷二基、氧原子、硫原子、-CH=CH-、-NH-、-COO-或-OCO-,a是0~3的整数,其中,在a为2以上时,多个R1和R2可以相同,也可以不同;R3是氟原子或氰基,b是0~4整数;

式(2)中,R4是亚苯基或亚环己基,该亚苯基或亚环己基的氢原子的一部分或全部可以被碳原子数为1~10的链状或环状的烷基、碳原子数为1~10的链状或环状的烷氧基、氟原子或氰基取代;R5是单键、碳原子数为1~3的链烷二基、氧原子、硫原子或-NH-,c是1~3的整数,其中,c为2以上时,多个R4和R5可以相同,也可以不同,R6是氟原子或氰基,d是0~4整数,R7是氧原子、-COO-或-OCO-,R8是2价的芳香族基团、2价的脂环式基团、2价的杂环基或2价的稠环基,R9是单键、-OCO-(CH2)f-*或-O(CH2)g-*,其中,带“*”的连接键和羧基连接,f和g各自是1~10的整数,e是0~3的整数,其中,在e为2以上时,R7和R8各自可以相同,也可以不同。

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