[发明专利]一种溶剂渗透纳米压印微纳结构制备方法无效
| 申请号: | 201110290555.0 | 申请日: | 2011-09-26 |
| 公开(公告)号: | CN102955355A | 公开(公告)日: | 2013-03-06 |
| 发明(设计)人: | 王金合;闵国全;宋志棠;周伟民;张静;张燕萍 | 申请(专利权)人: | 上海市纳米科技与产业发展促进中心 |
| 主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 200237 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 溶剂 渗透 纳米 压印 结构 制备 方法 | ||
1.一种微纳结构的加工方法,其特征在于:采用聚合物或者聚合物/纳米粒子共混物溶液和软模板进行预成型,然后通过溶剂渗透方法去除溶剂使聚合物析出形成微纳结构图案,过程中无需紫外光或者加热固化过程。
2.按照权利要求书1所要求的聚合物对选用的溶剂要有足够的溶解度以保证聚合物溶液的固含量,并且溶液要具有较低的粘度和良好的流动性。聚合物本身对微纳结构基板的粘附力要远大于聚合物对软模板的粘附力。可以选择的聚合物为聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、环氧树脂(EP)、聚乙烯醇(PVA)、聚苯乙烯(PS)、3-己基聚噻吩(P3HT)。
3.按照权利要求书1所要求的聚合物溶剂要对所选择的聚合物有良好的溶解性,较低的挥发速度以及对软模板较好的浸润性、渗透性和不溶性。可以选择的溶剂为氯苯、邻二氯苯、甲苯。
4.按照权利要求书1所要求的软模板,其特征在于:软模板本身对聚合物溶剂具有浸润性和渗透性,但对聚合物溶剂具有抗溶解性,对聚合物具有抗粘连性。可以选择的模板材料可以为聚二甲基硅氧烷(PDMS)、聚氨酯、全氟聚醚。
5.溶剂渗透成型的工艺过程,其特征在于:首先将聚合物溶液以旋图或喷涂的方式在清洗好的基板上形成聚合物溶液膜,在聚合物尚未析出之前将软模板从一边逐步覆盖在聚合物液膜上并施加一定压力,或者利用滚轴将软模板逐步滚压到聚合物液膜,促进聚合物溶液对软模板上微纳结构的填充,完成预成型工序。
6.溶剂渗透成型的工艺过程,其特征在于:过程中无需紫外光或者加热促进聚合物固化成型。预成型以后,保持压力3~10min,使聚合物溶液中的大部分溶剂渗透到软模板中,聚合物从溶液中析出,形成聚合物微纳结构,然后慢慢将软模板从一边轻轻剥离,使聚合物微纳结构图案留在基板上。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海市纳米科技与产业发展促进中心,未经上海市纳米科技与产业发展促进中心许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110290555.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





