[发明专利]触控萤幕与导电线路的制作方法无效
| 申请号： | 201110289586.4 | 申请日： | 2011-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN103002664A | 公开（公告）日： | 2013-03-27 |
| 发明（设计）人： | 张振炘;佘灯永;伍哲毅;苏飞;钟斌;陈文春;汪福定;黄培梅 | 申请（专利权）人： | 宝宸(厦门)光学科技有限公司 |
| 主分类号： | H05K3/06 | 分类号： | H05K3/06;G06F3/041 |
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| 地址： | 361009 福建省厦门市*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 萤幕 导电 线路 制作方法 | ||
1.一种导电线路的制作方法，其特征在于，包含步骤：
印刷形成一导电层于一基材的周边区域；以及
蚀刻该导电层以形成复数导电线路。
2.如权利要求1所述的导电线路的制作方法，其特征在于，该导电层是采用丝网印刷方式印刷一导电胶于该基材的周边区域而成。
3.如权利要求2所述的导电线路的制作方法，其特征在于，该导电胶为导电银胶、导电铜胶及导电石墨胶其中之一者。
4.如权利要求1所述的导电线路的制作方法，其特征在于，该等复数导电线路的线距为20μm至70μm。
5.如权利要求1所述的导电线路的制作方法，其特征在于，该等复数导电线路的线距为20μm至40μm。
6.如权利要求1所述的导电线路的制作方法，其特征在于，该等复数导电线路的线宽为20μm至70μm。
7.如权利要求1所述的导电线路的制作方法，其特征在于，该等复数导电线路的线宽为20μm至40μm。
8.如权利要求1所述的导电线路的制作方法，其特征在于，所述蚀刻该导电层以形成复数导电线路的步骤为采用激光蚀刻方式蚀刻该导电层以形成复数导电线路。
9.如权利要求8所述的导电线路的制作方法，其特征在于，该激光蚀刻方式的激光光束为532nm或1064nm波长的绿色激光。
10.如权利要求1所述的导电线路的制作方法，其特征在于，该基材为透明有机基材或透明无机基材。
11.如权利要求10所述的导电线路的制作方法，其特征在于，该透明有机基材为聚乙烯对苯二甲酸酯、聚碳酸酯、聚乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯其中之一者。
12.一种触控萤幕，其特征在于，包含：
一触控感测层；以及
复数导电线路，分布于该触控感测层的周边区域，并连接于该触控感测层，其中，该复数导电线路是先印刷形成一导电层于一基材的周边区域，再蚀刻该导电层而成。
13.如权利要求12所述的触控萤幕，其特征在于，该导电层是采用丝网印刷方式印刷一导电胶于该基材的周边区域而成。
14.如权利要求13所述的触控萤幕，其特征在于，该导电胶为导电银胶、导电铜胶及导电石墨胶其中之一者。
15.如权利要求12所述的触控萤幕，其特征在于，该等复数导电线路的线距为20μm至70μm。
16.如权利要求12所述的触控萤幕，其特征在于，该等复数导电线路的线距为20μm至40μm。
17.如权利要求12所述的触控萤幕，其特征在于，该等复数导电线路的线宽为20μm至70μm。
18.如权利要求12所述的触控萤幕，其特征在于，该等复数导电线路的线宽为20μm至40μm。
19.如权利要求12所述的触控萤幕，其特征在于，所述蚀刻该导电层为采用激光蚀刻方式蚀刻该导电层以形成复数导电线路。
20.如权利要求19所述的触控萤幕，其特征在于，所述激光蚀刻方式的激光光束为为532nm或1064nm波长的绿色激光。
21.如权利要求12所述的触控萤幕，其特征在于，该基材为一透明有机基材或透明无机基材。
22.如权利要求21所述的触控萤幕，其特征在于，该透明有机基材为聚乙烯对苯二甲酸酯、聚碳酸酯、聚乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯其中之一者。
23.如权利要求12所述的触控萤幕，其特征在于，该触控感测层为一单层单轴结构、一单层双轴结构及一双层双轴结构其中之一者。
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