[发明专利]中性清洗剂及其制备方法有效
| 申请号: | 201110289495.0 | 申请日: | 2011-09-27 |
| 公开(公告)号: | CN102399642A | 公开(公告)日: | 2012-04-04 |
| 发明(设计)人: | 熊勇;张小蓉;韩世忠 | 申请(专利权)人: | 英特沃斯(北京)科技有限公司 |
| 主分类号: | C11D1/83 | 分类号: | C11D1/83;C11D3/60;C11D3/30;C11D3/20 |
| 代理公司: | 北京市浩天知识产权代理事务所 11276 | 代理人: | 雒纯丹 |
| 地址: | 101300 北京市顺义区南*** | 国省代码: | 北京;11 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 中性 洗剂 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种清洗剂及其制备方法,尤其是涉及一种低泡型中性清洗剂及其制备方法,适用于液晶显示器(LCD)、有机发光显示器(OLED)和光学透镜等敏感器件生产过程中的清洗。
背景技术
目前,市场上有两类清洗剂,溶剂型清洗剂和水基清洗剂。一般市场上常用的溶剂型清洗剂通常含有快速挥发的有机溶剂,虽然有很强的清洗能力,但是具有消耗臭氧,影响环境,危害人体健康,价格高,毒性高,易燃易爆,操作不安全等缺点。而一般常用的水基清洗剂表面张力大对狭小缝隙润湿性差,一些盲孔和狭小细缝中的残留物难以清洗,这些残留物如不能有效去除,可能对后续工序或应用造成影响。
对于LCD和LED生产过程,如果存在上述残留物不能有效去除的问题,将会影响产品外观,影响液晶显示效果,影响产品成品率、使用性能以及使用寿命。而且在高温高湿情况下,上述缺点还会导致电极短路和断路。
另外,由于LCD和LED结构向高精度化方向发展,电极材料、成膜技术不断进步,导电膜厚度不断降低,集成电路变得越来越致密和纤细,一般显碱性或酸性的清洗剂会和电极电路发生化学反应会造成一定程度的腐蚀。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是:克服现有水基清洗剂表面张力比较大,对狭小缝隙润湿性差的缺点,提供一种中性水基清洗剂及其制备方法,配合超声波清洗和高压喷淋清洗,可以去除灰尘、油脂和树脂残迹,该清洗剂润湿性、渗透性强,对狭小缝隙有良好的清洗效果。
本发明所要解决的另一技术问题是:克服现有清洗剂为碱性或酸性,清洗时会产生化学反应,而对电极电路造成腐蚀的缺点,提供一种中性水基清洗剂及其制备方法,该清洗剂PH值为中性,能够为液晶显示器(LCD)、有机发光显示器(OLED)、光学镜片等敏感表面提供极佳的无损害清洗。
为了解决上述技术问题,本发明主要选用渗透能力强的表面活性剂,包括脂肪醇烷氧基表面活性剂、脂肪醇聚氧乙烯醚类表面活性剂、聚醚型表面活性剂、LAS,降低了水基清洗剂的表面张力,使其在狭小缝隙清洗方面取得了预料不到的技术效果。另外,本发明清洗剂主要采用非离子表面活性剂,因此所得清洗剂PH值为中性,能够为光学器件敏感表面提供无损害清洗。
具体来说,本发明提供了如下的技术方案:
本发明采用的第一技术方案是,一种中性水基清洗剂,按中性水基清洗剂总质量百分比计算,包括:脂肪醇烷氧基表面活性剂0.5-1.5%,优选1%;脂肪醇聚氧乙烯醚类表面活性剂1-5%,优选3%;聚醚型表面活性剂1-5%,优选3%;直链烷基苯磺酸钠(LAS)0.5-1%,优选0.7%;选择性含有的添加剂0.01-1%,优选0.26-0.74%;有机溶剂5-13%,优选9%;和去离子水余量。
脂肪醇烷氧基表面活性剂是一种非离子表面活性剂。脂肪醇烷氧基表面活性剂作为低泡表面活性剂,具有良好的去污、渗透和分散性能,还能对清洗剂中污垢产生的泡沫具有抑制作用,使清洗剂具有很好的水洗性能,进而获得漂洗后器件表面干净、无斑的清洗效果。
本发明所用脂肪醇烷氧基表面活性剂是脂肪醇乙氧基化物或脂肪醇丙氧基化物,结构式如下式所示,
R(OCH2CH2)nOH或R(OCH(CH3)CH2)nOH。
其中,R是C12-C18直链或支链的烷基、直链或支链的烯基;n是平均值,为4-12。该脂肪醇烷氧基表面活性剂浊点是至少18℃,优选20-40℃。
本发明更优选的脂肪醇烷氧基表面活性剂是脂肪醇乙氧基化物,其中R是C14-C16直链烷基,n是8-10,优选R是C15直链烷基,n是9。该脂肪醇乙氧基化物浊点为31-35℃。
本发明所用脂肪醇乙氧基化物可以是市购的,例如,BASF生严的Plurafac LF400,浊点为33℃。
脂肪醇聚氧乙烯醚类表面活性剂是一种非离子表面活性剂。脂肪醇聚氧乙烯醚类表面活性剂是高级脂肪醇与环氧乙烷的加成物,对矿物油和动物油脂具有极好的乳化、分散性能,且具有一定润湿性,生物降解性能好。
本发明所用脂肪醇聚氧乙烯醚类表面活性剂的结构式如下式所示,
RO(CH2CH2O)nH
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英特沃斯(北京)科技有限公司,未经英特沃斯(北京)科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110289495.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:数控万向摇摆机构
- 下一篇:半圆形弯头模具脱模机构





