[发明专利]一种具有全方位反射镜的图形衬底及其制备方法

权利要求书

1.一种具有全方位反射镜的图形衬底，其特征在于，包括蓝宝石图形衬底和在所述蓝宝石图形衬底上的全方位反射镜层，所述的蓝宝石图形衬底的单个图形结构为具有倾斜侧壁的圆台状，在所述圆台状图形的倾斜侧壁上有全方位反射镜层。

2.根据权利要求1所述的图形衬底，其特征在于，所述单个圆台状图形的顶面直径2-5μm，相邻图形的间距为1-3μm；

3.根据权利要求1所述的图形衬底，其特征在于，所述的全方位反射镜层为Al₂O₃/SiO₂、Au₂O/SiO₂或Ag₂O/SiO₂其中的一种。

4.根据权利要求3所述的图形衬底，其特征在于，所述的全方位反射镜层为Al₂O₃/SiO₂，即为交替生长厚度为100nm的SiO₂层和厚度为50nm的Al₂O₃层，重复周期为1-3个。

5.如权利要求1-4任一项所述的图形衬底的制备方法，步骤如下：

(1)在蓝宝石图形衬底上涂上一层光刻胶，对蓝宝石图形衬底上圆台状图形的倾斜侧壁进行光刻胶曝光；

(2)显影去掉步骤(1)中经曝光后的光刻胶；

(3)在经步骤(2)处理过的蓝宝石图形衬底上蒸镀一层Al₂O₃/SiO₂、Au₂O/SiO₂或Ag₂O/SiO₂反射镜层；

(4)将经步骤(3)处理过的蓝宝石图形衬底置于去胶液中去除光刻胶，得具有全方位反射镜的蓝宝石图形衬底；

(5)利用金属有机物化学气相沉淀法在步骤(4)所述全方位反射镜的蓝宝石图形衬底上外延生长GaN层。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中所述的蓝宝石图形衬底上圆台状图形的顶面直径2-5μm，相邻图形的间距为1-3μm；

7.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中所述光刻胶的厚度为1-3μm，所述对光刻胶曝光的时间为10-12s；步骤(2)中所述显影时间为45-50s。

8.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，步骤(5)中所述GaN层的厚度为5～10μm。