[发明专利]镀膜件及其制造方法无效
申请号: | 201110287749.5 | 申请日: | 2011-09-26 |
公开(公告)号: | CN103009705A | 公开(公告)日: | 2013-04-03 |
发明(设计)人: | 陈正士;李聪 | 申请(专利权)人: | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
主分类号: | B32B15/04 | 分类号: | B32B15/04;C23C28/00;C23C14/14;C23C14/08;C25D11/02;C23C14/35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 镀膜 及其 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种镀膜件及其制造方法。
背景技术
现有技术,采用阳极氧化处理的方式在铝或铝合金表面形成一阳极氧化膜,在一定程度上可改善铝或铝合金基体的硬度、耐磨性、耐腐蚀性及装饰性,但阳极氧化膜存在表面粗糙、暗哑的缺点。
采用喷涂的方式于阳极氧化膜上喷涂一透明油漆层,可改善阳极氧化处理产品表面的触感;但喷涂过程中容易产生积漆、油漆层厚度不均等不良现象,且喷涂形成的涂层厚度较厚,如此将导致阳极氧化膜的颜色发生偏差、光泽度下降。此外,喷涂工艺易于造成环境污染。用真空镀膜方式代替喷涂形成一透明状的真空镀膜层可解决上述技术问题,但由于阳极氧化膜与真空镀膜层之间存在较大的内应力,易于导致膜层发生开裂、剥落等现象。
发明内容
鉴于此,本发明提供一种可解决上述问题的镀膜件。
另外,本发明还提供一种上述镀膜件的制造方法。
一种镀膜件,包括基体、依次形成于基体上阳极氧化膜、结合层及真空镀膜层,所述结合层为钛层或铬层,所述真空镀膜层为二氧化硅层或氧化铝层。
一种镀膜件的制造方法,其包括如下步骤:
提供基体;
通过阳极氧化处理的方式,在该基体的表面形成阳极氧化膜;
对所述阳极氧化膜表面进行抛光处理;
采用真空镀膜法,以钛靶或铬靶为靶材,在抛光后的阳极氧化膜上形成结合层,该所述结合层为钛层或铬层;
采用真空镀膜法,以硅靶或铝靶为靶材,以氧气为反应气体,在结合层上形成真空镀膜层,该真空镀膜层为二氧化硅层或氧化铝层。
本发明对所述阳极氧化膜进行抛光处理,且所述结合层及真空镀膜层均为无色透明状,使所述镀膜件在呈现阳极氧化处理的外观的同时呈现出高的光泽度。所述结合层的形成可提高所述真空镀膜层与阳极氧化膜之间的结合力,进而避免所述阳极氧化膜与真空镀膜层直接结合而导致真空镀膜层发生开裂、剥落等现象。所述真空镀膜层本身具有良好的硬度及耐磨性,可增强所述镀膜件的硬度及耐磨性。此外,该镀膜件的制造方法较为环保且良率较好。
附图说明
图1是本发明一较佳实施例镀膜件的剖视图;
图2是本发明一较佳实施例真空镀膜机的示意图。
主要元件符号说明
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