[发明专利]镀膜件及其制造方法无效

专利信息
申请号: 201110287749.5 申请日: 2011-09-26
公开(公告)号: CN103009705A 公开(公告)日: 2013-04-03
发明(设计)人: 陈正士;李聪 申请(专利权)人: 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
主分类号: B32B15/04 分类号: B32B15/04;C23C28/00;C23C14/14;C23C14/08;C25D11/02;C23C14/35
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518109 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 镀膜 及其 制造 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种镀膜件及其制造方法。

背景技术

现有技术,采用阳极氧化处理的方式在铝或铝合金表面形成一阳极氧化膜,在一定程度上可改善铝或铝合金基体的硬度、耐磨性、耐腐蚀性及装饰性,但阳极氧化膜存在表面粗糙、暗哑的缺点。

采用喷涂的方式于阳极氧化膜上喷涂一透明油漆层,可改善阳极氧化处理产品表面的触感;但喷涂过程中容易产生积漆、油漆层厚度不均等不良现象,且喷涂形成的涂层厚度较厚,如此将导致阳极氧化膜的颜色发生偏差、光泽度下降。此外,喷涂工艺易于造成环境污染。用真空镀膜方式代替喷涂形成一透明状的真空镀膜层可解决上述技术问题,但由于阳极氧化膜与真空镀膜层之间存在较大的内应力,易于导致膜层发生开裂、剥落等现象。

发明内容

鉴于此,本发明提供一种可解决上述问题的镀膜件。

另外,本发明还提供一种上述镀膜件的制造方法。

一种镀膜件,包括基体、依次形成于基体上阳极氧化膜、结合层及真空镀膜层,所述结合层为钛层或铬层,所述真空镀膜层为二氧化硅层或氧化铝层。

一种镀膜件的制造方法,其包括如下步骤:

提供基体;

通过阳极氧化处理的方式,在该基体的表面形成阳极氧化膜;

对所述阳极氧化膜表面进行抛光处理;

采用真空镀膜法,以钛靶或铬靶为靶材,在抛光后的阳极氧化膜上形成结合层,该所述结合层为钛层或铬层;

采用真空镀膜法,以硅靶或铝靶为靶材,以氧气为反应气体,在结合层上形成真空镀膜层,该真空镀膜层为二氧化硅层或氧化铝层。

本发明对所述阳极氧化膜进行抛光处理,且所述结合层及真空镀膜层均为无色透明状,使所述镀膜件在呈现阳极氧化处理的外观的同时呈现出高的光泽度。所述结合层的形成可提高所述真空镀膜层与阳极氧化膜之间的结合力,进而避免所述阳极氧化膜与真空镀膜层直接结合而导致真空镀膜层发生开裂、剥落等现象。所述真空镀膜层本身具有良好的硬度及耐磨性,可增强所述镀膜件的硬度及耐磨性。此外,该镀膜件的制造方法较为环保且良率较好。

附图说明

图1是本发明一较佳实施例镀膜件的剖视图;

图2是本发明一较佳实施例真空镀膜机的示意图。

主要元件符号说明

镀膜件10基体11阳极氧化膜13结合层15真空镀膜层17镀膜机100镀膜室20真空泵30轨迹21第一靶材22第二靶材23气源通道24

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司,未经鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110287749.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top