[发明专利]一种基于层层组装技术制备自修复聚电解质涂层的方法

权利要求书

1.一种基于层层组装技术制备自修复聚电解质涂层的方法，其步骤如下：

A.将聚阳离子构筑基元和聚阴离子构筑基元分别溶于溶剂配成一定浓度、一定pH值的溶液；

B.将处理后的基底浸入到聚阳离子溶液中1～30分钟，然后将基底从聚阳离子溶液中取出，水洗除去基底表面物理吸附的物质后经N₂吹干；

C.将步骤B的基底再浸入到聚阴离子溶液中1～30分钟，然后将基底从聚阴离子溶液中取出，水洗除去基底表面物理吸附的物质后经N₂吹干，从而完成一个沉积周期涂层的制备；

D.重复步骤B、C，从而在基底上制备得到多个沉积周期的自修复聚电解质涂层。

2.如权利要求1所述一种基于层层组装技术制备自修复聚电解质涂层的方法，其特征在于：聚阳离子为聚烯丙基胺盐酸盐、聚乙烯基亚胺、明胶、聚四乙烯基吡啶、聚二烯丙基二甲基胺盐酸盐、壳聚糖、聚L-赖氨酸、聚苯胺中的一种或几种。

3.如权利要求1所述一种基于层层组装技术制备自修复聚电解质涂层的方法，其特征在于：聚阴离子为聚丙烯酸、聚苯乙烯磺酸钠、海藻酸钠、透明质酸、磺化聚醚醚酮、磺化葡聚糖中的一种或几种。

4.如权利要求1所述一种基于层层组装技术制备自修复聚电解质涂层的方法，其特征在于：溶剂为水、乙醇、丙酮、N，N-二甲基甲酰胺、二甲基亚砜或氯仿。

5.如权利要求1所述一种基于层层组装技术制备自修复聚电解质涂层的方法，其特征在于：聚阳离子或聚阴离子溶液的浓度为0.01～100mg/mL。

6.如权利要求1所述一种基于层层组装技术制备自修复聚电解质涂层的方法，其特征在于：聚阳离子或聚阴离子溶液的pH值为1～14。

7.如权利要求1所述一种基于层层组装技术制备自修复聚电解质涂层的方法，其特征在于：基底为光学玻璃、石英、单晶硅、金属、氟化钙或塑料。

8.如权利要求1所述一种基于层层组装技术制备自修复聚电解质涂层的方法，其特征在于：聚阳离子和聚阴离子的用量摩尔比为1∶10～10∶1。