[发明专利]液晶显示装置及其制造方法有效
申请号: | 201110287157.3 | 申请日: | 2011-09-15 |
公开(公告)号: | CN102478737A | 公开(公告)日: | 2012-05-30 |
发明(设计)人: | 申熙善;吴锦美;李汉锡 | 申请(专利权)人: | 乐金显示有限公司 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362;G02F1/133;G02F1/1343;G02F1/1333;H01L21/77 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液晶 显示装置 及其 制造 方法 | ||
1.一种液晶显示装置,包括:
基板,包括有源区和虚拟区;
栅极线和数据线,彼此交叉地设置在所述基板上用以在所述有源区中限定多个像素区;
像素电极,设置在所述多个像素区中的每一像素区中;
公共电极,在所述有源区中被图案化以限定多个公共电极图案部分,各公共电极图案部分和每一像素电极形成电场;
第一感测线,设置在所述公共电极上并与所述公共电极电连接,以感测用户触摸;以及
至少一个虚拟电极,设置在与所述公共电极图案部分之一相邻的虚拟区中。
2.根据权利要求1所述的液晶显示装置,其中所述虚拟电极与所述公共电极由相同的材料形成。
3.根据权利要求1所述的液晶显示装置,其中所述虚拟电极与所述公共电极形成在相同的层中。
4.根据权利要求1所述的液晶显示装置,其中在所述虚拟电极和相邻的公共电极图案部分之间的沿第一方向的距离基本上与在相邻的公共电极图案部分之间的沿第一方向的距离相同。
5.根据权利要求1所述的液晶显示装置,其中利用了边缘场效应。
6.根据权利要求1所述的液晶显示装置,其中所述公共电极图案部分均具有弯曲形状。
7.根据权利要求6所述的液晶显示装置,其中所述第一感测线设置在所述公共电极图案部分的弯曲部分以防止旋转位移。
8.根据权利要求1所述的液晶显示装置,其中所述虚拟电极的朝向相邻的公共电极图案部分的一侧与所述相邻的公共电极图案部分的邻近侧平行。
9.根据权利要求8所述的液晶显示装置,其中所述虚拟电极的远离所述相邻的公共电极图案部分的一侧的形状与所述虚拟电极的朝向所述相邻的公共电极图案部分的一侧的形状不同。
10.根据权利要求8所述的液晶显示装置,其中所述第一感测线进一步设置在所述虚拟电极上。
11.根据权利要求1所述的液晶显示装置,还包括第二感测线,所述第二感测线设置在所述数据线的上方并与所述第一感测线交叉,所述第一感测线和所述第二感测线用于感测触摸位置。
12.一种制造液晶显示装置的方法,包括如下步骤:
在基板上顺序地沉积电极层、感测线层以及光致抗蚀剂层,所述基板包括有源区以及虚拟区;
通过半色调掩模向所述光致抗蚀剂层照射光;
通过将被光照射的光致抗蚀剂层显影来形成第一光致抗蚀剂图案;
利用所述第一光致抗蚀剂图案作为掩模蚀刻所述感测线层和所述电极层,以在具有多个公共电极图案部分的有源区中形成公共电极图案,以及在与所述公共电极图案部分之一相邻的虚拟区中形成至少一个虚拟电极;
部分地去除所述第一光致抗蚀剂图案,以形成第二光致抗蚀剂图案;
利用所述第二光致抗蚀剂图案作为掩模蚀刻所述感测线层,以形成至少具有第一感测线的感测线图案;以及
去除所述第二光致抗蚀剂图案。
13.根据权利要求12所述的方法,其中所述半色调掩模包括不透射光的非透射区、部分透射光的半透射区、以及完全透射光的透射区,
其中所述透射区包括与所述有源区对应的第一透射区以及与所述有源区和所述虚拟区之间的界面对应的第二透射区,以及
其中所述第一透射区的宽度基本上与所述第二透射区的宽度相同。
14.根据权利要求12所述的方法,其中在所述虚拟电极和相邻的公共电极图案部分之间的沿第一方向的距离基本上与在相邻的公共电极图案部分之间的沿第一方向的距离相同。
15.根据权利要求12所述的方法,其中所述公共电极图案部分均具有弯曲形状。
16.根据权利要求15所述的方法,其中所述第一感测线设置在所述公共电极图案部分的弯曲部分以防止旋转位移。
17.根据权利要求12所述的方法,其中所述虚拟电极的朝向相邻的公共电极图案部分的一侧与所述相邻的公共电极图案部分的邻近侧平行。
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