[发明专利]合成石英玻璃基板抛光浆料和利用该抛光浆料制造合成石英玻璃基板

权利要求书

1.用于合成石英玻璃基板的抛光浆料，包括胶原衍生物和胶体溶液。

2.如权利要求1所述的抛光浆料，其中胶原衍生物在其结构中具有甘氨酸和羟脯氨酸。

3.如权利要求1所述的抛光浆料，其中胶原衍生物是明胶或胶原肽。

4.如权利要求1所述的抛光浆料，其中胶体溶液是具有胶体二氧化硅浓度为重量百分比20至50％的胶体二氧化硅分散液。

5.如权利要求1所述的抛光浆料，还包括羧酸或其盐。

6.如权利要求1所述的抛光浆料，具有pH值为8至11。

7.如权利要求6所述的抛光浆料，其中采用选自碱金属氢氧化物、碱土金属氢氧化物、碱式盐、胺和氨中的至少一种来调节pH值。

8.通过粗抛光和最终抛光步骤来制造合成石英玻璃基板的方法，其中最终抛光步骤采用如权利要求1所述的抛光浆料。

9.如权利要求8所述的方法，其中如权利要求1所述的抛光浆料保持在低于胶原变性温度的温度，并且进料至最终抛光步骤，在最终抛光步骤中由于抛光热而于高于胶原变性温度的温度进行抛光。