[发明专利]基板处理方法和基板处理设备

权利要求书

1.一种使用基板处理设备的基板处理方法，其特征在于，包括：

第一步骤，施加来自包括在所述设备中的脉冲电源的负电压脉冲；和

第二步骤，对于所述负电压脉冲和在所述负电压脉冲之后的来自所述脉冲电源的正电压脉冲之间的时段，施加浮动电位，

其中

所述设备包括：

室；

第一电极，被设置在所述室内；

第二电极，被设置成所述第二电极面向所述第一电极以保持基板；

RF电源，将具有50MHz以上的频率的RF电压施加到所述第二电极；和

所述脉冲电源，将具有所述RF电压的电压波形重复地施加到所述第二电极，所述电压波形包括负电压脉冲和正电压脉冲。

2.如权利要求1所述的基板处理方法，其特征在于，

对于在正电压脉冲和所述正电压脉冲之后的负电压脉冲之间的时段，所述脉冲电源输出地电位，所述负脉冲电压和所述正脉冲电压两者通过所述脉冲电源被输出。

3.如权利要求1所述的基板处理方法，其特征在于，

输出所述浮动电位的时段是50ns以下。

4.一种基板处理设备，其特征在于，包括：

室；

第一电极，被设置在所述室内；

第二电极，被设置在所述室内，以便所述第二电极面向所述第一电极以保持基板；

RF电源，将具有50MHz以上的频率的RF电压施加到所述第二电极；和

脉冲电源，将具有包括负电压脉冲和正电压脉冲的波形的电压重复地施加到所述第二电极，所述电压被叠加在所述RF电压上，

其中

所述脉冲电源包括：

第一电源，输出与所述负电压脉冲的峰值电压相对应的第一电压；

第二电源，输出与所述正电压脉冲的峰值电压相对应的第二电压；

输出端子，所述第一电压、所述第二电压和地电位中的任何一个被施加到所述输出端子；

第一开关，将所述第一电源的连接切换到所述输出端子；

第二开关，将所述第二电源的连接切换到所述输出端子；

第三开关，将所述地电位的连接切换到所述输出端子；和

切换单元，控制所述第一开关、所述第二开关和所述第三开关。

5.如权利要求4所述的基板处理设备，其特征在于，

所述切换单元接通所述第一开关并且切断所述第二开关和所述第三开关两者，以允许所述脉冲电源将所述负电压脉冲输出到所述输出端子；

所述切换单元切断所述第一开关、所述第二开关和所述第三开关，以允许所述脉冲电源将所述浮动电位输出到所述输出端子；

所述切换单元接通所述第二开关并且切断所述第一开关和所述第三开关两者，以允许所述脉冲电源将所述正电压脉冲输出到所述输出端子；和

所述切换单元接通所述第三开关并且切断所述第一开关和所述第二开关两者，以允许所述脉冲电源将所述地电位输出到所述输出端子。