[发明专利]关于工程勘察剖面图内业整理的方法及装置有效

专利信息
申请号: 201110277578.8 申请日: 2011-09-19
公开(公告)号: CN102354322A 公开(公告)日: 2012-02-15
发明(设计)人: 金淮;张建旭;刘永勤;马海志;张建全 申请(专利权)人: 北京城建勘测设计研究院有限责任公司
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 王天尧
地址: 100101 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 关于 工程 勘察 剖面图 整理 方法 装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及工程勘察技术领域,尤其涉及关于工程勘察剖面图内业整理的方法及装置。

背景技术

工程勘察工作中,需要把同一条勘探线上的钻孔连接成一个地质剖面。要把不同的钻孔连成剖面,必须先绘制草剖面,在草剖面上进行人工分层,形成正式剖面,然后把这个正式剖面结果在CAD(Computer Aided Design,计算机辅助设计)中绘制出来。

由于剖面中的钻孔和钻孔之间的土层数目很多,每个分层还需要填充和标注,所以用手工的办法在CAD中把这些剖面绘制出来,在实际工作中的制图效率非常低。

发明内容

本发明实施例提供一种关于工程勘察剖面图内业整理的方法,用以提高工程勘察剖面图的制图效率,该方法包括:

对钻孔进行排序,形成钻孔队列;

将所述钻孔队列中每相邻前后两个钻孔的土层数据结构进行逐层比对;

根据所述逐层比对的结果判断出土层结构体;

调用所述土层结构体对应的绘制函数,在绘图工具控件中绘制所述土层结构体。

一个实施例中,所述土层数据结构包括;土层底层深度、土层编号、左连和右连、土层名称。

一个实施例中,所述土层结构体包括:直连、尖灭、上尖、下尖、双连、或断连。

一个实施例中,将所述钻孔队列中每相邻前后两个钻孔的土层数据结构进行逐层比对,包括:

将所述钻孔队列中每相邻前后两个钻孔中,前一个钻孔的右侧土层数据结构与后一个钻孔的左侧土层数据结构进行逐层比对。

一个实施例中,所述前一个钻孔的右侧土层数据结构与后一个钻孔的左侧土层数据结构进行逐层比对,包括:

前一个钻孔右侧的四个土层数据结构与后一个钻孔左侧的四个土层数据结构进行逐层比对。

一个实施例中,根据所述逐层比对的结果判断出土层结构体之后,还包括:

将所述土层结构体各个节点的平面位置坐标有序地保存在一数组中;

所述调用所述土层结构体对应的绘制函数,在绘图工具控件中绘制所述土层结构体,包括:

根据所述数组中保存的所述土层结构体各个节点的平面位置坐标,在绘图工具控件中绘制所述土层结构体。

一个实施例中,所述调用所述土层结构体对应的绘制函数,在绘图工具控件中绘制所述土层结构体,包括:

在绘图工具控件中绘制所述土层结构体对应的封闭曲线;

根据所述土层结构体的岩性描述,对所述封闭曲线进行填充。

本发明实施例还提供一种关于工程勘察剖面图内业整理的装置,用以提高工程勘察剖面图的制图效率,该装置包括:

排序模块,用于对钻孔进行排序,形成钻孔队列;

比对模块,用于将所述钻孔队列中每相邻前后两个钻孔的土层数据结构进行逐层比对;

判断模块,用于根据所述逐层比对的结果判断出土层结构体;

绘制模块,用于调用所述土层结构体对应的绘制函数,在绘图工具控件中绘制所述土层结构体。

一个实施例中,所述土层数据结构包括;土层底层深度、土层编号、左连和右连、土层名称。

一个实施例中,所述土层结构体包括:直连、尖灭、上尖、下尖、双连、或断连。

一个实施例中,所述比对模块具体用于:

将所述钻孔队列中每相邻前后两个钻孔中,前一个钻孔的右侧土层数据结构与后一个钻孔的左侧土层数据结构进行逐层比对。

一个实施例中,所述比对模块具体用于:

将所述钻孔队列中每相邻前后两个钻孔中,前一个钻孔右侧的四个土层数据结构与后一个钻孔左侧的四个土层数据结构进行逐层比对。

一个实施例中,所述判断模块还用于:

将所述土层结构体各个节点的平面位置坐标有序地保存在一数组中;

所述绘制模块具体用于:

根据所述数组中保存的所述土层结构体各个节点的平面位置坐标,在绘图工具控件中绘制所述土层结构体。

一个实施例中,所述绘制模块具体用于:

在绘图工具控件中绘制所述土层结构体对应的封闭曲线;

根据所述土层结构体的岩性描述,对所述封闭曲线进行填充。

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