[发明专利]预防物理气相沉积溅射工艺过程中金属靶材被击穿的方法有效

专利信息
申请号: 201110272663.5 申请日: 2011-09-15
公开(公告)号: CN102443770A 公开(公告)日: 2012-05-09
发明(设计)人: 杨奕;韩晓刚;陈建维 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C23C14/54
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人: 王敏杰
地址: 201210 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 预防 物理 沉积 溅射 工艺 过程 金属 靶材被 击穿 方法
【权利要求书】:

1.一种预防物理气相沉积溅射工艺过程中金属靶材被击穿的方法,基于溅射镀膜装置完成,溅射镀膜装置包括真空腔体,设置在真空腔体内的阴极靶材、镀膜产品和供气系统,供气系统包括进气口和将外部气源与进气口连通的供气通道,其特征在于,包括下列步骤:

靶一端加负电压,基底接地,靶材、等离子体以及置于基底上的晶圆形成通路;

实时跟踪物理气相沉积金属溅射工艺过程中电压与电流的数据,计算出R=V/I,其中V为加在靶上的电压,I为回路的电流,设定R数值代表靶材的虚拟厚度数值,并在系统中设定其大小的上下限值,若R超过限值,启动报警机制;

确定靶材厚度与机台的靶寿命之间的关联性,在整个靶材使用寿命周期内,让靶材厚度与机台的靶寿命之间,在数值上拟合成特定的计算关系,通过计算关系引出关联因子,并在系统中设定此关联因子的上下限值,若该关联因子数值超过限值,启动报警机制。

2.根据权利要求1所述的预防物理气相沉积溅射工艺过程中金属靶材被击穿的方法,其特征在于,所述靶为铝靶。

3.根据权利要求2所述的预防物理气相沉积溅射工艺过程中金属靶材被击穿的方法,其特征在于,所述靶寿命的上限值为4000KWH。

4.根据权利要求1所述的预防物理气相沉积溅射工艺过程中金属靶材被击穿的方法,其特征在于,所述供气系统提供的是氩气。

5.根据权利要求1所述的预防物理气相沉积溅射工艺过程中金属靶材被击穿的方法,其特征在于,所述R的数值范围为7.8~10.2,所述代表靶材厚度与机台的靶寿命之间的线性关系的斜率值的数值范围-为-0.04~0.1。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司,未经上海华力微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110272663.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top