[发明专利]除硅油水基清洗剂

说明书

技术领域

本发明属于织物用清洗剂技术领域，涉及一种织物清洗剂，特别涉及 一种无尘室用的无尘室织物耗品的除硅油水基清洗剂。

背景技术

目前，无尘室织物耗品主要包括两种：防静电无尘服和无尘擦拭布。 防静电无尘服是无尘室的常用静电和尘粒污染的防护装备；无尘擦拭布是 无尘室的常用清洁工具。上述两种无尘室织物耗品广泛应用于半导体芯片、 微处理器、装配生产线、LCD和LED、磁盘磁头等产业中。为了控制管理 产品制作流程的不良率，针对无尘室污染源进行管控是非常必要的。污染 物种类及其危害大致可分下列几种，(1)有机污染物：挥发性有机物，如 各种常用有机溶剂；非挥发性有机物，如硅油、邻苯二甲酸二辛酯、酰胺 化合物。有机污染物有可能沉积在产品表面，造成光罩雾化或蚀刻不良。 (2)无机污染物：金属离子污染物，如Na⁺、K⁺、Ca²⁺、Mg²⁺、Al³⁺、Fe³⁺等；酸根离子污染物Cl^-、F^-、Br^-、NO^2-、NO^3-、SO₄^2-等。离子含量过高除 了可能因离子本身易带电荷影响产品的电性外，还会产生强的氧化或还原 作用而导致产品表面易氧化生锈腐蚀。(3)各种粒径的微尘，可以是有机 微尘、无机微尘或细菌等。微尘污染可能造成上述的诸多危害，导致电子 产品零件表面刮伤。

因为无尘室织物耗品与产品有间接和直接的接触，其本身的洁净度指 标和所带污染物对产品的良率有很大的影响，所以无尘室织物耗品必须具 备很高的洁净度，如低离子含量、低溶剂萃取物和低发尘量等。无尘室织 物耗品还要求硅油含量≤2ng/cm²，硅油是指室温下保持液体状态的线型聚 硅氧烷。

无尘室织物耗品的生产加工过程：(1)采用聚酯纤维纱线、导电聚酯 或聚酰胺纱线、聚酯/聚酰胺复合纤维纱线等通过机织或针织方式进行织造 成坯布；(2)对坯布进行染整加工，通常采用溢流清洗机高温高压水洗除 油或去浆、染色，聚酯/聚酰胺复合纤维需要经过碱减量开纤，处理后的布 料经过拉幅定型，得到尺寸稳定和表面污渍少的布匹；(3)将(2)生产的 布料进行裁剪分切，可采用冷裁、激光、超声波等裁切方式，防静电服还 需要进行缝纫制作；(4)在无尘室内，超净清洗、烘干、真空包装后即得 到可在无尘室下使用的织物耗品。

在上述生产加工过程中，坯布纱线纤维表面附着的污染物有：(1)纺 丝油剂，其作用是降低纤维和金属的摩擦力、纤维和纤维的摩擦力、纤维 和纤维的丝鸣，增加纤维抱合力和抗静电能力等，防止纤维在织造过程因 摩擦出现断裂；(2)浆料，其作用是使经纱纤维在机织织造过程不散开。 坯布需要在染整过程中，在一定温度条件下，通常为80℃-130℃，采用含 表面活性剂或碱剂(如氢氧化钠、碳酸钠等)的水进行除油清洗。清洗后 的化纤织物需要在140℃-180℃下，经过拉幅定型来烘干，以达到保持织物 的尺寸稳定性和控制织物克重均衡的效果。由于染整厂的拉幅定型设备多 以硅油作为润滑剂使用，在140℃-180℃的高温条件下，硅油会产生挥发， 粘附到织物表面。因此，经过染整加工的织物，容易出现含硅油现象。硅 油一般是无色(或淡黄色)，无味、无毒、不易挥发的液体。润滑剂硅油的 成分大部分为聚二甲基硅氧烷。无尘室织物在后加工超净清洗过程中，通 常采用超纯水清洗，而聚二甲基硅氧烷的极性较小，容易在化纤表面上铺 展粘附，所以，即使多次清洗也无法将这些硅油物质彻底清除，导致无尘 室织物耗品的非挥发性有机物和硅油含量超标。在使用时，特别针对磁盘 磁头和半导体行业，这些超标不合格的无尘室织物耗品上的硅油和其他非 挥发性有机物，通过溶剂溶出或擦拭等方式脱落后，容易沉积在产品表面， 对加工产品造成极大危害，影响产品良率。