[发明专利]光化浮雕微缩图像转移到颜料表面的方法

权利要求书

1.一种将光化浮雕微缩图像转移到颜料表面的方法,其特征在于，包括以下步骤：

提供基底材料；

将光致抗蚀剂稀释，均匀的涂刷在基底材料表面；

将光致抗蚀剂涂层表面的图像部分裸露，其余部分遮挡，然后对光致抗蚀剂涂层曝光；

显影和定影，得到光化微缩浮雕图像；

沉积颜料薄膜层；

颜料薄膜层剥离。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所制成的光化浮雕微缩图像径向尺寸为1-100微米。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于：所制成的光化浮雕微缩图像径向尺寸为5-30微米。

4.另一种将光化浮雕微缩图像转移到颜料表面的方法,其特征在于，包括以下步骤：

在金属基板表面均匀涂刷稀释的光致抗蚀剂；

将光致抗蚀剂涂层表面的图像部分裸露，其余部分遮挡，然后对光致抗蚀剂涂层曝光；

显影和定影，得到表面由光致抗蚀剂部分遮盖的金属基板；

采用电化学镀的方法对光致抗蚀剂遮盖的金属基板表面电镀薄膜；

对光致抗蚀剂进行剥离，得到有光化浮雕微缩图像的母版；

在柔性基材上涂印标记记录层，用所述母版在标记记录层上模压，将母版的图像信息转移到标记记录层上；

在带有图像信息的标记记录层上沉积颜料薄膜层；

颜料薄膜层剥离。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于：在采用电化学镀的方法对光致抗蚀剂遮盖的金属基板表面电镀薄膜步骤和对光致抗蚀剂进行剥离的步骤之间，还包括以下步骤：二次涂布光致抗蚀剂，对准曝光，显影后二次电镀，形成厚度厚于图像区图像的隔像区图像。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于：所述图像区图像的凸浮高度是0.1-5微米。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于：所述图像区图像的凸浮高度是0.8-2微米。

8.根据权利要求5所述的方法，其特征在于：所述图像区图像的径向尺寸是在3-50微米范围内。

9.根据权利要求5所述的方法，其特征在于：所述隔像区图像的凸浮高度是0.1-10微米，隔像区图像的凸浮高度比图像区图像的凸浮高度高出0.3-10微米。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于：所述隔像区图像的凸浮高度是1.6-2微米，隔像区图像的凸浮高度比图像区图像的凸浮高度高出0.5-3微米。

11.   根据权利要求5所述的方法，其特征在于：所述隔像区图像包括分别围绕每一个图像区图像的具有确定的外形和尺寸的边框，边框内尺寸与图像的外形对应。

12.根据权利要求4所述的方法，其特征在于：所述母版由通过浇铸成模和表面金属化的方法对原始母版进行复制后得到的新母版替代。

13.另一种将光化浮雕微缩图像转移到颜料表面的方法,其特征在于，包括以下步骤：

在金属基板表面均匀涂刷稀释的光致抗蚀剂；

将光致抗蚀剂涂层表面的图像部分遮挡，非图像部分裸露，然后对光致抗蚀剂涂层曝光；

显影和定影；

对所述金属基板表面电镀薄膜；

对光致抗蚀剂进行剥离，得到有光化浮雕微缩图像的母版；

用所述母版在标记记录层上模压，将母版的图像信息转移到标记记录层上；在带有图像信息的标记记录层上沉积颜料薄膜层；

颜料薄膜层剥离。

14.根据权利要求1、4或13所述的方法，其特征在于，对光致抗蚀剂涂层进行曝光的方式采用掩膜曝光、遮挡曝光或全息曝光。

15.根据权利要求1、4或13所述的方法，其特征在于：所述的沉积颜料薄膜层的方法采用气相沉积、液相沉积或凝胶法；沉积而成的颜料薄膜层是单层结构、三层结构或多层结构；单层结构的材质为单层金属单质、合金材料或磁性合金材料；三层结构包括顺序叠层的介质干涉层、反射层、介质干涉层；多层结构包括至少一个反射层，至少一个介质干涉层及至少一个吸收层。