[发明专利]用于制造半导体芯片面板的方法有效
申请号: | 201110269153.2 | 申请日: | 2011-09-13 |
公开(公告)号: | CN102403238A | 公开(公告)日: | 2012-04-04 |
发明(设计)人: | M.芬克;E.菲尔古特 | 申请(专利权)人: | 英飞凌科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/56 | 分类号: | H01L21/56;H01L21/67 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 王岳;李家麟 |
地址: | 德国瑙伊比*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 制造 半导体 芯片 面板 方法 | ||
1.一种用于制造半导体芯片面板的方法,所述方法包括:
提供多个半导体芯片;
将所述半导体芯片放置在载体上;
提供包括第一工具和第二工具的压缩模制设备;
将所述载体放置在所述压缩模制设备的第一工具上;
通过压缩模制用模制材料来密封所述半导体芯片,其中在压缩模制期间,延迟从第一工具到载体的上表面的热传递。
2.根据权利要求1所述的方法,其中在压缩模制期间,在所述第一工具与所述载体之间提供间隙。
3.根据权利要求2所述的方法,其中所述压缩模制设备的第一工具包括多个销,所述多个销从第一工具的上表面延伸并能够插入到第一工具中,其中所述方法进一步包括:
将所述载体放置在所述第一工具上,使得所述载体位于所述销上,因此在载体的下表面与第一工具的上表面之间建立间隙;以及
在压缩模制期间,减少在第一工具与第二工具之间的距离,直到所述销插入到第一工具中并且载体达到搁置成其下表面处于第一工具的上表面。
4.根据权利要求2所述的方法,进一步包括:在压缩模制期间,按压在第一工具的上表面与载体的下表面之间的空气。
5.根据权利要求1所述的方法,其中以使得在压缩模制期间阻碍从载体的下表面到载体的上表面的热传递的方式来构建载体。
6.根据权利要求5所述的方法,其中所述载体包括下金属层、上金属层以及中间层,其中所述中间层包括比下金属层和上金属层的每一个均低的导热率。
7.根据权利要求1所述的方法,其中在压缩模制期间,所述载体的上表面的温度升高大于30%。
8.一种用于制造半导体芯片面板的方法,所述方法包括:
提供多个半导体芯片;
将所述半导体芯片放置在载体上;
提供包括第一工具和第二工具的压缩模制设备;
将所述载体放置在所述压缩模制设备的第一工具上;
通过压缩模制用模制材料来密封所述半导体芯片,其中在压缩模制期间,载体的上表面的温度升高大于30%。
9.根据权利要求8所述的方法,其中在压缩模制开始时,所述载体的上表面的温度低于100℃。
10.根据权利要求8所述的方法,其中在压缩模制期间,增加第一工具的温度。
11.根据权利要求8所述的方法,其中在压缩模制期间,在第一工具与载体之间提供间隙。
12.根据权利要求8所述的方法,其中所述压缩模制设备的第一工具包括多个销,所述多个销从第一工具的上表面延伸并能够插入到所述第一工具中,其中所述方法进一步包括:
将载体放置在第一工具上,使得载体位于所述销上并且在载体的下表面与第一工具的上表面之间建立间隙;以及
在压缩模制期间,减少在第一工具与第二工具之间的距离,直到销插入到第一工具中并且载体达到搁置成其下表面处于第一工具的上表面上。
13.根据权利要求8所述的方法,进一步包括:在压缩模制期间,按压在第一工具的上表面与载体的下表面之间的空气。
14.根据权利要求8所述的方法,其中以使得在压缩模制期间延迟从载体的下表面到载体的上表面的热传递的方式来构建所述载体。
15.根据权利要求8所述的方法,其中所述载体包括下金属层、上金属层和中间层,其中所述中间层包括比下金属层和上金属层的每一个均低的导热率。
16.一种用于制造半导体芯片面板的方法,所述方法包括:
提供多个半导体芯片;
将所述半导体芯片放置在载体上;
提供压缩模制设备,所述压缩模制设备包括第一工具和第二工具;
将所述载体放置在所述压缩模制设备的第一工具上;
通过压缩模制用模制材料来密封所述半导体芯片,其中在压缩模制开始时,载体的上表面的温度低于100℃。
17.根据权利要求16所述的方法,其中在压缩模制期间增加第一工具的温度。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造