[发明专利]输送装置及其使用方法

权利要求书

1.一种输送装置，其包括：

入口；

出口；

进入室；和

排出室；所述排出室设置在与所述进入室相反的位置，通过圆锥形部分与所述进入室流体连通；所述排出室包括曲径结构，该曲径结构可以进行操作，防止输送装置中包含的固体前体化合物颗粒离开所述输送装置，同时允许固体前体化合物的蒸气通过出口离开所述输送装置。

2.如权利要求1所述的输送装置，其特征在于，所述曲径结构由限制器、所述圆锥形部分以及所述输送装置的内壁形成；所述圆锥形部分的一部分凸出通过包括所述限制器的表面的平面。

3.如权利要求2所述的输送装置，其特征在于，从所述排出室的底板或者顶板测量，所述限制器的高度大于所述圆锥形部分最小直径处的高度。

4.如权利要求3所述的输送装置，其特征在于，所述排出室包括多个限制器，至少一个限制器设置在所述圆锥形部分的表面上。

5.如权利要求4所述的输送装置，其特征在于，所述限制器还包括挡板，所述挡板凸入载气从入口移动到出口的路径中。

6.如权利要求1所述的输送装置，其特征在于，所述曲径结构使得从入口到出口移动的载气发生两次或更多次拐弯；每次拐弯的平均角度约大于或等于120度；所述拐弯是相对于拐弯之前的平均移动方向测量的。

7.如权利要求2所述的输送装置，其特征在于，所述限制器是围绕圆锥形部分的环。

8.一种沉积膜的方法，该方法包括：

提供输送装置；所述输送装置具有入口、出口，在入口和出口之间设置有曲径结构；所述曲径结构由限制器、圆锥形部分以及输送装置的内壁形成；所述圆锥形部分的一部分凸出通过包括所述限制器的表面的平面；

通过入口将载气引入所述输送装置；

使得载气流过固体前体化合物，使得载气被前体化合物基本饱和；被前体化合物饱和的载气通过出口从输送装置排出，所述曲径结构使得载气拐至少两个弯，对于每次拐弯，相对于载气拐弯之前的平均方向，拐弯的平均角度约大于或等于120度；

将包含前体化合物的载气输送到包括基材的反应容器；以及

对所述前体化合物施加足以使得前体化合物分解而在基材上形成膜的条件。

9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，载气从顶部到底部流经所述输送装置。

10.如权利要求8所述的方法，其特征在于，载气从底部到顶部流经所述输送装置。