[发明专利]使物理气相沉积薄膜的厚度稳定的装置及其方法无效
| 申请号： | 201110257264.1 | 申请日： | 2011-09-01 |
| 公开（公告）号： | CN102965636A | 公开（公告）日： | 2013-03-13 |
| 发明（设计）人： | 周军;傅昶 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 陆花 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 物理 沉积 薄膜 厚度 稳定 装置 及其 方法 | ||
1.一种使物理气相沉积薄膜的厚度稳定的装置，其特征在于，包括：
用于支撑基片的承载台，所述承载台包括控制单元，用于控制所述承载台的移动；
侦测器，用以测量靶消耗的厚度，所述侦测器与所述控制单元信号连接。
2.根据权利要求1所述的使物理气相沉积薄膜的厚度稳定的装置，其特征在于，还包括位置控制元件，根据所述靶消耗的厚度值调整所述靶和磁体之间的距离。
3.根据权利要求2所述的使物理气相沉积薄膜的厚度稳定的装置，其特征在于，所述位置控制元件还包括螺纹杆，用以调整所述靶和所述磁体之间的距离。
4.根据权利要求1至3中任一项的使物理气相沉积薄膜的厚度稳定的装置，其特征在于，所述侦测器为称重器。
5.根据权利要求1至3中任一项的使物理气相沉积薄膜的厚度稳定的装置，其特征在于，所述侦测器为红外线发生器。
6.根据权利要求1至3中任一项的使物理气相沉积薄膜的厚度稳定的装置，其特征在于，所述侦测器为声学侧厚仪。
7.根据权利要求1至3中任一项的使物理气相沉积薄膜的厚度稳定的装置，其特征在于，所述承载台为静电吸附吸盘。
8.一种使物理气相沉积薄膜的厚度稳定的方法，包括：
利用侦测器测量靶消耗的厚度值，并将所述厚度值发送至承载台的控制单元；
所述控制单元根据所述靶消耗的厚度控制所述承载台移动的距离。
9.根据权利要求8所述的使物理气相沉积薄膜的厚度稳定的方法，其特征在于，使物理气相沉积薄膜的厚度稳定的装置还包括位置控制元件，利用所述侦测器测量所述靶消耗的厚度值，并将所述厚度值发送至所述位置控制元件，所述位置控制元件根据所述靶消耗的厚度值调整所述靶和磁体之间的距离，使所述靶的有效表面磁场强度稳定。
10.根据权利要求9所述的使物理气相沉积薄膜的厚度稳定的方法，其特征在于，所述位置控制元件包括数据接收单元，所述数据接收单元与所述侦测器信号连接，用以接收所述侦测器测量的所述靶消耗的厚度值。
11.根据权利要求9所述的使物理气相沉积薄膜的厚度稳定的方法，其特征在于，所述位置控制元件还包括螺纹杆，用以调整所述靶和磁体之间的距离。
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