[发明专利]透明导电膜以及使用该透明导电膜的触控面板无效

专利信息
申请号: 201110254972.X 申请日: 2011-08-31
公开(公告)号: CN102956285A 公开(公告)日: 2013-03-06
发明(设计)人: 林明田;施博盛 申请(专利权)人: 天津富纳源创科技有限公司;识骅科技股份有限公司
主分类号: H01B5/00 分类号: H01B5/00;H01B5/14;G06F3/041
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300457 天津市滨海新区*** 国省代码: 天津;12
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 透明 导电 以及 使用 面板
【权利要求书】:

1.一种透明导电膜,该透明导电膜包括多个导电条带沿不同方向延伸并相互连接,该多个导电条带排列成图案,使该透明导电膜具有阻抗异向性,其中,所述多个导电条带包括多个第一导电条带间隔排列且沿第一方向延伸,以及多个第二导电条带间隔排列且沿第二方向延伸,所述第二导电条带设置于所述第一导电条带之间并与该第一导电条带电连接,所述第一方向与第二方向之一为低阻抗方向,该透明导电膜在所述低阻抗方向上的电阻率小于其它方向的电阻率。

2.如权利要求1所述的透明导电膜,其特征在于,相邻的第一导电条带之间具有多个第二导电条带,该多个第二导电条带电连接该相邻的第一导电条带。

3.如权利要求1所述的透明导电膜,其特征在于,所述第一方向为低阻抗方向,所述第二方向为高阻抗方向,该透明导电膜在所述高阻抗方向上的电阻率大于其它方向的电阻率,所述透明导电膜在所述低阻抗方向上的电阻率与高阻抗方向上的电阻率的比值为1:30至1:1000。

4.如权利要求3所述的透明导电膜,其特征在于,所述第一导电条带以及第二导电条带的材料相同,该第一导电条带与该第二导电条带的宽度之比为100:1至500:1。

5.如权利要求3所述的透明导电膜,其特征在于,所述第一导电条带以及第二导电条带的材料不同。

6.如权利要求5所述的透明导电膜,其特征在于,所述第一导电条带的材料为透明且导电之金属氧化物、金属氮化物或金属氟化物,第二导电条带的材料为透明且导电之导电聚合物、碳纳米管或石墨烯。

7.如权利要求1所述的透明导电膜,其特征在于,所述第二方向为低阻抗方向,所述第一方向为高阻抗方向,该透明导电膜在所述高阻抗方向上的电阻率大于其它方向的电阻率,所述透明导电膜在低阻抗方向上的电阻率与高阻抗方向上的电阻率的比值为1:30至1:1000。

8.如权利要求1所述的透明导电膜,其特征在于,所述低阻抗方向与高阻抗方向的夹角为大于等于10度小于等于90度。

9.如权利要求1所述的透明导电膜,其特征在于,所述第一导电条带以及第二条带的材料为具有透明及导电性能的金属氧化物、金属氮化物、金属氟化物、导电聚合物、石墨烯或包含多个碳纳米管的碳纳米管透明导电膜。

10.如权利要求9所述的透明导电膜,其特征在于,所述透明导电膜的材料为氧化锡、氧化锌、氧化镉、氧化铟、氧化铟锡、氧化锌铟、氧化锌稼、氧化锌铝、氧化钛钽、氮化钛氟掺杂的氧化锡、聚乙基双醚噻吩以及聚乙基双醚噻吩-聚磺苯乙烯中的至少一种。

11.如权利要求1所述的透明导电膜,其特征在于,所述第一导电条带以及第二导电条带的形状为直条带、方波形条带、之字形条带、阶梯形条带、锯齿形条带、弧形条带或波浪状条带。

12.如权利要求11所述的透明导电膜,其特征在于,所述第一导电条带以及第二导电条带为等宽或宽度变化的导电条带。

13.如权利要求1所述的透明导电膜,其特征在于,在所述相邻的第一导电条带或所述相邻的第二导电条带之间进一步设置有多个光学补偿膜。

14.如权利要求13所述的透明导电膜,其特征在于,每个所述光学补偿膜为整体连续的膜状结构或由多个间隔排列的光学膜组成。

15.一种透明导电膜,该透明导电膜包括多个一维透明导电体相互间隔设置且沿第一方向延伸,相邻的一维透明导电体之间通过多个透明导电体电连接,其中,所述透明导电膜具有阻抗异向性,所述第一方向为低阻抗方向,该透明导电膜在所述低阻抗方向上的电阻率小于其它方向的电阻率。

16.一种透明导电膜,该透明导电膜包括多个透明导电体相互间隔设置或交叉设置,相邻的透明导电体之间设置有多个一维透明导电体,该多个一维透明导电体间隔设置且沿一第二方向延伸,其中,所述透明导电膜具有阻抗异向性,所述第二方向为低阻抗方向,该透明导电膜在所述低阻抗方向上的电阻率小于其它方向的电阻率。

17.一种触控面板,其特征在于,包括至少一层如权利要求1至16中任一项所述的透明导电膜、一基板以及多个电极,该透明导电膜设置于该基板表面,该多个电极分别与该透明导电膜电连接。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津富纳源创科技有限公司;识骅科技股份有限公司,未经天津富纳源创科技有限公司;识骅科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110254972.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top