[发明专利]图像形成装置无效
申请号: | 201110251974.3 | 申请日: | 2011-08-30 |
公开(公告)号: | CN102385286A | 公开(公告)日: | 2012-03-21 |
发明(设计)人: | 山崎龙也;神村直哉 | 申请(专利权)人: | 兄弟工业株式会社 |
主分类号: | G03G15/08 | 分类号: | G03G15/08;G03G15/00 |
代理公司: | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人: | 梅高强;刘煜 |
地址: | 日本爱知县名古*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 图像 形成 装置 | ||
1.一种图像形成装置(1),其特征在于,具有:
第一感光体(52);
第二感光体(52),该第二感光体(52)配置在所述第一感光体(52)的下游;
曝光单元(40、140),该曝光单元(40、140)对所述第一感光体(52)及所述第二感光体进行曝光;
第一显影单元(60),该第一显影单元(60)具有向所述第一感光体(52)供给显影剂的第一显影辊(62)、支撑所述第一显影辊(62)的第一框体(61)、以及具有第一基端(64A)和第一自由端(64B)的第一层厚限制片(64),所述第一基端(64A)固定于所述第一框体(61),所述第一自由端(64B)与所述第一显影辊(62)滑动接触而限制显影剂的厚度;
第二显影单元(60),该第一显影单元(60)具有向所述第二感光体(52)供给显影剂的第二显影辊(62)、支撑所述第二显影辊(62)的第二框体(61)、以及具有第二基端(64A)和第二自由端(64B)的第二厚限制片(64),所述第二基端(64A)固定于所述第二框体(61),所述第二自由端(64B)与所述第二显影辊(62)滑动接触而限制显影剂的厚度,
从所述第一显影辊(62)的轴向看,所述第一层厚限制片(64)配置在所述第一显影辊(62)、与对所述第一感光体(52)进行曝光的曝光用光的光轴(OA)或所述曝光单元(40、140)之间,所述第一层厚限制片(64)在顺从所述第一显影辊(62)的周面的移动方向的顺从方向上从所述第一基端(64A)延伸到所述第一自由端(64B)。
2.根据权利要求1所述的图像形成装置,其特征在于,从所述第二显影辊(62)的轴向看,所述第二层厚限制片(64)配置在所述第二显影辊(62)、与对所述第二感光体(52)进行曝光的曝光用光的光轴(OA)或所述曝光单元(40、140)之间,所述第二层厚限制片(64)在顺从所述第二显影辊(62)的周面的移动方向的顺从方向上从所述第二基端(64A)延伸到所述第二自由端(64B)。
3.根据权利要求2所述的图像形成装置,其特征在于,还具有:
第三感光体(52),该第三感光体(52)配置在所述第二感光体(52)的下游;
第四感光体(52),该第四感光体(52)配置在所述第三感光体(52)的下游;
第三显影单元(60),该第三显影单元(60)具有向所述第三感光体(52)供给显影剂的第三显影辊(62)、支撑所述第三显影辊(62)的第三框体(61)、以及具有第三基端(64A)和第三自由端(64B)的第三层厚限制片(64),所述第三基端(64A)固定于所述第三框体(61),所述第三自由端(64B)与所述第三显影辊(62)滑动接触而限制显影剂的厚度;
第四显影单元(60),该第四显影单元(60)具有向所述第四感光体(52)供给显影剂的第四显影辊(62)、支撑所述第四显影辊(62)的第四框体(61)、以及具有第四基端(64A)和第四自由端(64B)的第四层厚限制片(64),所述第四基端(64A)固定于所述第四框体(61),所述第四自由端(64B)与所述第四显影辊(62)滑动接触而限制显影剂的厚度,
从所述第三显影辊(62)的轴向看,所述第三层厚限制片(64)配置在所述第三显影辊(62)、与对所述第三感光体(52)进行曝光的曝光用光的光轴(OA)或所述曝光单元(40、140)之间,所述第三层厚限制片(64)在顺从所述第三显影辊(62)的周面的移动方向的顺从方向上从所述第三基端(64A)延伸到所述第三自由端(64B),
从所述第四显影辊(62)的轴向看,所述第四层厚限制片(64)配置在所述第四显影辊(62)、与对所述第四感光体(52)进行曝光的曝光用光的光轴(OA)或所述曝光单元(40、140)之间,所述第四层厚限制片(64)在顺从所述第四显影辊(62)的周面的移动方向的顺从方向上从所述第四基端(64A)延伸到所述第四自由端(64B)。
4.根据权利要求1所述的图像形成装置,其特征在于,还具有显影单元导向机构(16),
该显影单元导向机构(16)沿着所述第一层厚限制片(64)的所述顺从方向,将所述第一显影单元(60)从远离位置引导到接近位置,所述接近位置为所述第一显影辊(62)相对于所述第一感光体(52)接近的位置,所述远离位置为所述第一显影辊(62)从所述接近位置远离所述第一感光体(52)的位置。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于兄弟工业株式会社,未经兄弟工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
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