[发明专利]一种低蚀刻光刻胶清洗液

权利要求书

1.一种低蚀刻光刻胶清洗液，该清洗液包含(a)季铵氢氧化物、(b)含有两个碳和/或三个碳的多元醇、(c)含有五个碳和/或六个碳的多元醇、(d)水和(e)助溶剂。

2.如权利要求1所述清洗液，其特征在于，季铵氢氧化物的含量为0.1～10％；含有两个碳和/或三个碳的多元醇的含量为5～40％；含有五个碳和/或六个碳的多元醇的含量为0.1～10％；水的含量为0.1～10％；助溶剂为余量，上述含量为质量百分比含量。

3.如权利要求2所述清洗液，其特征在于，季铵氢氧化物的含量为0.1～5％；含有两个碳和/或三个碳的多元醇的含量为10-35％；含有五个碳和/或六个碳的多元醇的含量为0.1～5％；水的含量为0.1～5％；助溶剂为余量，上述含量为质量百分比含量。

4.如权利要求1所述清洗液，其特征在于，所述的季铵氢氧化物选自四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、甲基三乙基氢氧化铵和羟乙基三甲基氢氧化铵中的一种或者几种。

5.如权利要求1所述清洗液，其特征在于，所述的含有两个碳和/或三个碳的多元醇选自乙二醇、1，2-丙二醇、1，3-丙二醇和丙三醇中的一种或者几种。

6.如权利要求1所述清洗液，其特征在于，所述的含有五个碳和/或六个碳的多元醇包括山梨醇、甘露醇和/或木糖醇。

7.如权利要求1所述清洗液，其特征在于，所述的助溶剂选自亚砜、砜、咪唑烷酮、咪唑啉酮、吡咯烷酮、醇醚、酰胺中的一种或多种。

8.如权利要求7所述清洗液，其特征在于，所述的亚砜为二甲基亚砜；所述的砜为环丁砜；所述的咪唑烷酮为1，3-二甲基-2-咪唑烷酮；所述的咪唑啉酮为1，3-二甲基-2-咪唑啉酮；所述的吡咯烷酮为N-甲基吡咯烷酮、N-乙基吡咯烷酮、N-羟乙基吡咯烷酮和N-环己基吡咯烷酮；所述的酰胺为二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺；所述的醇醚为乙二醇醚和丙二醇醚。

9.如权利要求8所述清洗液，其特征在于，所述的乙二醇醚为二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇单丁醚；所述的丙二醇醚为二丙二醇单甲醚、二丙二醇单乙醚。