[发明专利]偏振转换元件、偏振转换单元、投影装置、及偏振转换元件的制造方法无效
| 申请号: | 201110243123.4 | 申请日: | 2011-08-18 |
| 公开(公告)号: | CN102445727A | 公开(公告)日: | 2012-05-09 |
| 发明(设计)人: | 粟野原芳则 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;G02B27/28;G03B21/14;G03B21/20;G02F1/1335 |
| 代理公司: | 北京金信立方知识产权代理有限公司 11225 | 代理人: | 黄威;张彬 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 偏振 转换 元件 单元 投影 装置 制造 方法 | ||
1.一种偏振转换元件,其特征在于,具有:
元件本体,其具有相互大致平行的光入射面和光出射面;
相位差板,其与该元件本体的所述光出射面相接合,
所述元件本体具有:
多个透光性基板,其以预定角度被依次接合在所述光出射面上;
偏振分离膜和反射膜,其交替设置在多个该透光性基板之间;
粘合层,其分别形成在多个所述透光性基板之间,
所述粘合层由紫外线硬化型粘合剂形成,且其厚度在5μm以上、10μm以下。
2.如权利要求1所述的偏振转换元件,其特征在于,
所述粘合层以改性丙烯酸酯或改性甲基丙烯酸酯为主要成分。
3.如权利要求1或2所述的偏振转换元件,其特征在于,
所述透光性基板和所述相位差板通过接合层而接合,
所述接合层包含:
硅骨架,其具有包含硅氧烷(Si-O)键的原子结构;
脱离基,其键合于该硅骨架,
所述硅骨架中,
所述脱离基脱离了的硅骨架的悬空键成为活性键,从而将所述透光性基板和所述相位差板接合在一起。
4.如权利要求1或2所述的偏振转换元件,其特征在于,
所述透光性基板和所述相位差板通过接合层而接合,
所述接合层通过如下的原子扩散接合法而形成,即,通过使设置在所述透光性基板上的微晶连续薄膜与设置在所述相位差板上的微晶连续薄膜相接触,从而使所述透光性基板的微晶连续薄膜和所述相位差板的微晶连续薄膜之间的接触界面及晶界上发生原子扩散,或者通过使设置在所述透光性基板和所述相位差板中的某一方上的微晶连续薄膜与设置在另一方上的微晶结构相接触,从而使所述微晶连续薄膜和所述微晶结构之间的接触界面及晶界上发生原子扩散。
5.如权利要求1或2所述的偏振转换元件,其特征在于,
所述相位差板由水晶形成。
6.一种偏振转换单元,其特征在于,具有:
权利要求1或2所述的偏振转换元件;
被配置在该偏振转换元件的光入射侧的透镜阵列。
7.一种投影装置,其特征在于,具有:
光源装置,其射出光;
权利要求6所述的偏振转换单元,其将来自该光源装置的光转换成一种偏振光;
光调制装置,其根据图像信息,对来自该偏振转换单元的所述偏振光进行调制,以形成光学像;
投影光学装置,其对通过该光调制装置而形成的所述光学像进行放大投影。
8.一种偏振转换元件的制造方法,其特征在于,
实施如下工序:
膜形成工序,在具有相互大致平行的第1面和第2面的多个透光性板材之间,交替设置偏振分离膜和反射膜;
粘合工序,在多个所述透光性板材之间,分别形成粘合层;
切断工序,将多个所述透光性板材以相对于所述第1面和所述第2面成预定角度的方式而进行切断,从而形成具有相互大致平行的光入射面和光出射面的层叠组块;
研磨工序,对所述层叠组块的光入射面和光出射面进行研磨,从而形成元件本体;
接合工序,将所述相位差板接合在所述元件本体的光出射面上,
在所述粘合工序中,所述粘合层通过紫外线硬化型粘合剂而形成为,厚度在5μm以上、10μm以下。
9.如权利要求3所述的偏振转换元件,其特征在于,
所述相位差板由水晶形成。
10.如权利要求4所述的偏振转换元件,其特征在于,
所述相位差板由水晶形成。
11.一种偏振转换单元,其特征在于,具有:
权利要求3所述的偏振转换元件;
被配置在该偏振转换元件的光入射侧的透镜阵列。
12.一种偏振转换单元,其特征在于,具有:
权利要求4所述的偏振转换元件;
被配置在该偏振转换元件的光入射侧的透镜阵列。
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