[发明专利]具备光学构造的基板以及使用它的光学元件有效
申请号: | 201110238741.X | 申请日: | 2011-08-19 |
公开(公告)号: | CN102375167A | 公开(公告)日: | 2012-03-14 |
发明(设计)人: | 安藤智宏;松本健志 | 申请(专利权)人: | 西铁城控股株式会社 |
主分类号: | G02B3/08 | 分类号: | G02B3/08 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 许海兰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具备 光学 构造 以及 使用 元件 | ||
1.一种具备光学构造的基板的制造方法,包括:
在具有凹部的基板上涂敷硬化性树脂;
从上述硬化性树脂的上部对上述基板挤压具有凹凸形状的铸型;以及
通过使上述硬化性树脂硬化而形成具有上述凹凸形状的光学构造,
上述凹部以覆盖配置有上述凹凸形状的区域的下部的方式进行配置,以便在上述铸型对上述基板进行挤压时,能够保持未硬化的上述硬化性树脂。
2.按照权利要求1所记载的具备光学构造的基板的制造方法,其特征在于:上述凹凸形状构成形成菲涅耳透镜的多个单体透镜。
3.按照权利要求1所记载的具备光学构造的基板的制造方法,其特征在于:对应于上述光学构造中的凹凸形状的至少一部分,配置上述凹部。
4.按照权利要求1所记载的具备光学构造的基板的制造方法,其特征在于:对应于上述光学构造的凹凸形状的厚度为最大的部位,配置上述凹部。
5.按照权利要求1所记载的具备光学构造的基板的制造方法,其特征在于:在形成上述光学构造的凹凸形状的全部区域,配置上述凹部。
6.按照权利要求1所记载的具备光学构造的基板的制造方法,其特征在于:上述凹部的体积大于在上述光学构造的体积上乘以上述硬化性树脂的体积收缩率而得到的体积。
7.按照权利要求1所记载的具备光学构造的基板的制造方法,其特征在于:上述光学构造和上述基板的折射率相同。
8.按照权利要求1所记载的具备光学构造的基板的制造方法,其特征在于:上述光学构造和上述基板的材料相同。
9.按照权利要求1所记载的具备光学构造的基板的制造方法,其特征在于:上述硬化性树脂是光硬化性树脂,上述基板是透明基板,通过从具有上述凹部的上述透明基板的背面照射紫外线,使上述光硬化性树脂硬化。
10.按照权利要求1所记载的具备光学构造的基板的制造方法,其特征在于:设定成从上述凹部的截面积扣除了在上述凹部中所填充的上述硬化性树脂发生硬化收缩的部分的面积后的面积大于在上述凹凸形状中所填充的上述硬化性树脂发生硬化收缩的部分的面积。
11.一种光学元件,具有:
通过权利要求1~10中的任一项所记载的制造方法而制造的第1基板和第2基板。
12.按照权利要求11所记载的光学元件,其特征在于还具有:
液晶层,配置于上述光学构造以及上述第2基板间;以及
密封材料,配置于上述光学构造的外侧,用于在上述光学构造以及上述第2基板间密封上述液晶层。
13.按照权利要求11所记载的光学元件,其特征在于:上述凹部被形成为透镜形状,并进行设定以使上述光学构造的折射率和上述第1以及第2透明基板的折射率不同。
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