[发明专利]一种基于紫外LED光源的光刻机

权利要求书

1.一种基于紫外LED光源的光刻机，其特征在于：其包括：发光控制器、紫外LED光源光学系统、光栏、掩模板、光刻胶和光刻胶衬底基片；其中，

所述发光控制器，用于控制曝光时间和相对辐照强度，并且其曝光方式采用接触式或接近式；

所述紫外LED光源光学系统，通过对紫外LED光源和透镜空间分布的光学设计，或仅通过对紫外LED光源空间分布的光学设计，实现紫外LED光源所发紫外光束在距该紫外LED光源一定距离即工作距离处的曝光面的均匀辐照曝光；

所述光栏，用于控制曝光面积以及消除边缘杂散光对样品的辐照。

2.根据权利要求1所述的基于紫外LED光源的光刻机，其特征在于，所用紫外LED光源的峰值波长在315nm至400nm。

3.根据权利要求1所述的基于紫外LED光源的光刻机，其特征在于，所述的紫外LED光源光学系统，为了实现曝光面的均匀辐照，该紫外LED光源光学系统可采用3种不同的方式：

1)紫外LED光源排布在平面上，在该紫外LED光源前加透镜组，实现距该紫外LED光源一定距离即工作距离处的曝光面的均匀辐照；

2)紫外LED光源排布在具有一定曲率半径的弧面上，在每个紫外LED前加1个透镜，实现该紫外LED光源工作距离处的曝光面的均匀辐照；

3)紫外LED光源排布在具有一定曲率半径的弧面上，没有透镜阵列，直接形成照明，实现该紫外LED光源工作距离处的曝光面的均匀辐照。

4.根据权利要求1或3所述的基于紫外LED光源的光刻机，其特征在于，所述紫外LED光源采用紫外LED阵列，实现高强度均匀辐照曝光，光强不均匀度在光刻面积内小于3％。

5.根据权利要求1所述的基于紫外LED光源的光刻机，其特征在于，对于曝光的控制通过控制LED的曝光时间和/或相对曝光辐照强度完成。

6.根据权利要求1或5所述的基于紫外LED光源的光刻机，其特征在于，对曝光时间的控制通过发光的开、关完成。

7.根据权利要求1或5所述的基于紫外LED光源的光刻机，其特征在于，对曝光时间的控制通过发光的开、关完成，曝光时间采用0.1s-999.9s倒计时进行。

8.根据权利要求1或5所述的基于紫外LED光源的光刻机，其特征在于，对相对曝光辐照强度的控制通过控制紫外LED光源的发光模式完成，所述相对曝光辐照强度在最大值的1％-100％之间可调。