[发明专利]液晶显示装置及其制造方法

权利要求书

1.一种液晶显示装置，该液晶显示装置包括：

基板；

像素区域，这些像素区域由排列在所述基板上的多条选通线和多条数据线限定，所述多条选通线和所述多条数据线在所述基板上排列成彼此交叉；

薄膜晶体管，各薄膜晶体管形成在所述多条选通线和所述多条数据线的交叉处；

像素电极，所述像素电极形成在各个所述像素区域中；

钝化层，所述钝化层形成在所述基板的设置有所述薄膜晶体管、所述选通线、所述数据线和所述像素电极的整个表面上；以及

公共电极布线和公共电极图案，所述公共电极布线和公共电极图案形成在所述钝化层上，

其中，所述钝化层包括第一部分和第二部分，所述第一部分在栅绝缘层上、与所述薄膜晶体管、所述选通线和所述数据线相对地形成，而所述第二部分以比所述第一部分的厚度薄的厚度、在所述像素区域上与所述像素电极相对应地形成。

2.根据权利要求1所述的液晶显示装置，其中，所述第一部分和所述第二部分形成在相同的层中。

3.根据权利要求1所述的液晶显示装置，其中，所述第二部分是通过利用了半色调掩模和衍射掩模中的一种掩模的光刻工艺，对与所述第一部分具有相同厚度的钝化膜进行蚀刻而形成的。

4.根据权利要求1所述的液晶显示装置，其中，所述公共电极布线形成在所述第一部分上。

5.根据权利要求1所述的液晶显示装置，其中，多个所述公共电极图案分别形成在多个所述第二部分上。

6.根据权利要求1所述的液晶显示装置，其中，所述第一部分以叠层结构形成，而所述第二部分以单层结构形成。

7.根据权利要求6所述的液晶显示装置，其中，所述第一部分包括第一钝化层和第二钝化层。

8.根据权利要求6所述的液晶显示装置，其中，所述第二部分包括第一钝化层和第二钝化层中的任意一层。

9.根据权利要求1所述的液晶显示装置，其中，所述第一部分和所述第二部分使得沿所述第一部分和所述第二部分之间的边界产生台阶结构。

10.根据权利要求9所述的液晶显示装置，该液晶显示装置还包括在所述栅绝缘层和所述第二部分之间形成的台阶高度补偿图案，该台阶高度补偿图案被配置成补偿所述台阶结构的台阶高度。

11.一种用于制造液晶显示装置的方法，该方法包括以下步骤：

在基础基板上形成栅极、选通线和选通焊盘；

在具有所述栅极、所述选通线和所述选通焊盘的所述基础基板上形成栅绝缘层；

在所述栅绝缘层上形成半导体图案；

在所述栅绝缘层上、与像素区域相对应地形成像素电极；

在设置有所述半导体图案的所述栅绝缘层上形成源极、漏极和数据线；以及

在设置有所述半导体图案、所述源极、所述漏极、所述像素电极、所述选通线和所述数据线的所述栅绝缘层上形成钝化层，

其中，所述钝化层被限定成：第一部分，其与所述半导体图案、所述源极、所述漏极、所述选通线和所述数据线相对；以及多个第二部分，其分别与所述像素电极相对，所述多个第二部分以比所述第一部分的厚度薄的厚度形成。

12.根据权利要求11所述的方法，其中，在相同的层中形成所述第一部分和所述第二部分。

13.根据权利要求11所述的方法，其中，通过利用了半色调掩模和衍射掩模中的一种的光刻工艺，对与所述第一部分具有相同厚度的钝化膜进行蚀刻来形成所述第二部分。

14.根据权利要求11所述的方法，所述方法还包括在所述第一部分上形成公共电极布线。

15.根据权利要求11所述的方法，所述方法还包括在所述第二部分上形成公共电极图案。

16.根据权利要求11所述的方法，其中，所述第一部分形成为叠层结构，而所述第二部分形成为单层结构。

17.根据权利要求16所述的方法，其中，所述第一部分包括第一钝化层和第二钝化层。

18.根据权利要求16所述的方法，其中，所述第二部分包括第一钝化层和第二钝化层中的任何一层。