[发明专利]旋转涂布制程的成膜装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种旋转涂布(Spin coating)制程装置，使用在基材保护层的旋转涂布上，尤其是指一种可使涂布材料达到较佳的均匀度(uniformity)，进而提升产品良率的旋转涂布制程的成膜装置。

背景技术

随着信息时代的需求，利用光来记录、再生情报的光学记录媒体，例如光盘片、盘片(CD)或DVD等，已普遍被应用，且伴随着光学记录媒体朝向高储存密度、小体积、高速记录及再生及制作成本低的趋势下，光学记忆媒体的需求更是与日俱增，光盘的制作技术也日益精进。

在制作光盘的旋转涂布制程中，基材被旋转器(Spinner)带动旋转，而喷洒在基材上的涂布材料将因离心力(Centrifugalforce)的关系而往基材的外围移动，最后形成一薄膜；而薄膜的厚度，除了与材料本身的黏度(Viscosity)有关以外，也与旋转器的转速成比例的关系。

一般而言，旋转器转动的速度越快，薄膜的厚度将越薄，涂布材料的黏度，旋转器的转速及涂布的方法，决定了薄膜的厚度及均匀度，所以当高黏滞性涂布材料使用于传统旋转涂布方法涂布于基材上时，涂布材料的基础特性(黏着性及伸缩性)和表面张力会造成涂布材料凸起于基材涂布结束部份(边缘处)，形成涂布薄膜厚度不均的问题。

其主因是在光盘被旋转涂覆的生产线中，数以百计或千计的光盘一个接一个被旋转涂覆，但制程中是需要一基础温度才有利于涂布材料于旋转时在基材上的涂布(扩散)，但是制成光盘的基材通常是热绝缘体，所以当基材被放置在旋转平台上以供旋转的时候，整体上基材的温度是不均匀的；通常是与旋转平台相箝制(靠近圆心)的部位温度较高，而在靠近边缘的部位则温度较低。所以涂布材料在靠近圆心的部位会较不黏稠（即黏度较低），而在靠近边缘的部位会较黏稠（即黏度较高）。

由于前述的现象，再加上高速旋转加工后，常使盘片的边缘因堆积作用产生隆起的不良现象结果，均匀度不佳则易导致读取和写入的质量不佳，间接影响了产品的良率，若以二次加工削去凸出隆起的部位，又会增加制造设备的成本且会增加制造过程时间，而且加工时易产生碎裂、破裂和折弯的问题会降低产品良率。因此如何改善上述习知技术的缺失，乃为产业相关业者需正视的重要课题。

有鉴于此，本发明人针对上述旋转涂布制程的成膜装置结构设计上未臻完善所导致的诸多缺失及不便，而深入构思，且积极研究改良试做而开发设计出本案。

发明内容

本发明的目的在于提供一种旋转涂布制程的成膜装置，以解决光盘边缘因涂布材料堆积而产生隆起的不良现象。

为了达成上述目的，本发明的解决方案是：

一种旋转涂布制程的成膜装置，其包含：

一旋转装置，具有至少一旋转平台，一基材置放于旋转平台上，涂料披覆于该基材的表面；一加热装置，设置于该旋转平台上方。

上述加热装置包含有：至少一加热体结构，该加热体结构对基材的边缘部份提供一热能；一侦测单元，该侦测单元侦测基材的一温度。

上述加热体结构还包含有一红外线热源。

上述加热体结构还包含有一热风输送口。

上述侦测单元为一热像仪。

采用上述结构后，本发明旋转涂布制程的成膜装置具有一旋转平台来承载一基材，在此基材所欲使用的一涂料施以旋转涂布制程时，使用热源体来提升基材边缘上涂料的温度，使涂料成膜后可消除或有效减少涂布结束部位所产生的隆起现象，如此涂料可均匀地涂布在基材上成膜，进而减少成品的误差并提高生产良率。    

附图说明

图1为本发明旋转涂布制程的成膜状态示意图；

图2为本发明所揭露的旋转涂布制程的成膜装置立体示意图(1)；

图3为本发明所揭露的旋转涂布制程的成膜装置立体示意图(2)；

图4为本发明所揭露的旋转涂布制程的成膜装置第一实施例剖面示意图(1)；

图5为本发明所揭露的旋转涂布制程的成膜装置第一实施例剖面示意图(2)；

图6为本发明所揭露的旋转涂布制程的成膜装置第二实施例剖面示意图。

主要元件符号说明

10基材         20涂料         21隆起部

30旋转平台     31固定座       32屏蔽结构

40侦测单元     41底座         42轴体

43悬臂结构     44红外线热源   45热风输送口。

具体实施方式