[发明专利]一种化学机械抛光液无效
| 申请号： | 201110223455.6 | 申请日： | 2011-08-05 |
| 公开（公告）号： | CN102911605A | 公开（公告）日： | 2013-02-06 |
| 发明（设计）人： | 宋伟红;姚颖;孙展龙 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
【权利要求书】：
1.一种化学机械抛光液，包括：一种二氧化铈的磨料，一种有机膦酸，一种pH调节剂，和载体水。
2.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述二氧化铈磨料为碱性氧化铈的水分散体，所述碱性氧化铈的pH为8-11。
3.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述二氧化铈磨料粒径为20-500nm。
4.如权利要求3所述的抛光液，其特征在于，所述二氧化铈磨料粒径为60-200nm。
5.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述二氧化铈磨料的固含量从0.1wt％到10wt％。
6.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述有机膦酸为选自2-羟基膦酰基乙酸、羟基亚乙基二膦酸和N-(膦酰基甲基)氨基乙酸中的一种或多种。
7.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述有机膦酸的浓度为0.05wt％-1wt％。
8.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述pH调节剂为KOH或者有机胺。
9.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述抛光液的pH值为7-12。
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