[发明专利]用于光刻设备的预对准装置有效
| 申请号: | 201110222168.3 | 申请日: | 2011-08-04 |
| 公开(公告)号: | CN102914951A | 公开(公告)日: | 2013-02-06 |
| 发明(设计)人: | 胡松立;姜杰 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号: | G03F9/00 | 分类号: | G03F9/00;G03F7/20;H01L21/68;H01L21/00 |
| 代理公司: | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人: | 王光辉 |
| 地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 光刻 设备 对准 装置 | ||
1.一种用于光刻设备的预对准装置,用于实现硅片传输中的预对准,包括温度稳定单元及用于支撑所述温度稳定单元的差分调平单元,定向吸盘单元及用于驱动所述定向吸盘单元运动的第一运动机构,定心吸盘单元及用于驱动所述定心吸盘单元运动的第二运动机构;其特征在于,所述温度稳定单元的中心贯通设有一内孔供定向吸盘单元和定心吸盘单元穿过,所述定向吸盘单元位于所述温度稳定单元内孔中心位置处,所述定心吸盘单元位于所述温度稳定单元与定向吸盘单元之间。
2.如权利要求1所述的预对准装置,其特征在于,所述预对准装置还包括一硅片边缘数据采集处理装置。
3.如权利要求1所述的预对准装置,其特征在于,所述定心吸盘为半圆形状且包围所述定向吸盘。
4.如权利要求1所述的预对准装置,其特征在于,所述温度稳定单元包括位于下层的水冷盘及位于上层的气浮盘。
5.如权利要求4所述的预对准装置,其特征在于,所述温度稳定单元还包括多个温度传感器,所述温度传感器均匀分布于所述温度稳定单元上;所述温度稳定单元还包括至少一个硅片存在传感器。
6.如权利要求1所述的预对准装置,其特征在于,所述差分调平单元包括依次连接的底座、差分螺母、导向杆、球头销和球窝,所述差分螺母的两端分别通过螺距不同的螺纹与导向杆、底座相配合实现上下差分运动,所述球窝固定安装于硅片温度稳定装置底部。
7.如权利要求6所述的预对准装置,其特征在于,所述差分螺母与导向杆、底座之间分别通过一锁紧螺母固定,所述球窝与球头销之间通过一锁紧环锁紧。
8.如权利要求1所述的预对准装置,其特征在于,所述第一运动机构包括一Z向运动台及一θ向运动台,所述Z向运动台用于提供沿Z向运动,所述θ向运动台用于提供沿θ向运动。
9.如权利要求1所述的预对准装置,其特征在于,所述第二运动机构包括X向运动台及一V向运动台,所述X向运动台及V向运动台均为由直线电机驱动的直线运动台。
10.如权利要求9所述的预对准装置,其特征在于,所述V向运动台还包括一重力补偿元件用以抵消V向运动负载重力。
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