[发明专利]一种分布式曝光剂量控制系统及方法

权利要求书

1.一种分布式曝光剂量控制系统，包括激光器单元，可变衰减器、光路传输单元，光路引导单元及能量传感器，所述激光器单元产生一激光脉冲经过所述可变衰减器、光路传输单元及光路引导单元后由所述能量传感器测量实际接收的激光脉冲，其特征在于，所述激光器单元，可变衰减器，光路传输单元，光路引导单元及能量传感器分别采用独立校正模型获得不同单元的补偿因子，将所述实际接收的激光脉冲和参数组根据所述不同单元的校准因子进行前馈补偿后获得一脉冲能量值，所述脉冲能量值通过一统一补偿控制单元输出后进行反馈补偿以获得曝光剂量。

2.如权利要求1所述的分布式曝光剂量控制系统，其特征在于，所述独立校正模型包括信号收集模块、模块参数记录模块以及输出因子计算模块。

3.如权利要求2所述的分布式曝光剂量控制系统，其特征在于，所述信号收集模块采集参数并去除噪音后下发给模块参数记录模块。

4.如权利要求3所述的分布式曝光剂量控制系统，其特征在于，所述信号收集模块采集参数并去除噪音的步骤包括：采集参数S1，并将其存入缓存数组ValN中，每次采集后，对数组中的前两个周期的参数Vali-2进行复查，当该参数同时满足以下条件：(|Vali-2-(Vali-3+Vali-4)/2|＞|Vali-2|·25％)∩(|Vali-2-(Vali-1+Vali)/2|＞|Vali-2|·25％)，则认为参数Vali-2为噪声，在缓存中去除该参数。

5.如权利要求2所述的分布式曝光剂量控制系统，其特征在于，所述模块参数记录模块采用环形缓冲区，所述环形缓冲区中的每个单元都为符合本模块参数组成的结构。

6.如权利要求2所述的分布式曝光剂量控制系统，其特征在于，所述输出因子计算模块从所述模块参数记录模块中获取运算参数及影响权重参数，根据所述运算参数及影响权重参数计算并输入校准后的输出参数和校准因子，所述运算参数包括绝对变量参数，间接影响结果参数，直接影响结果参数。

7.如权利要求6所述的分布式曝光剂量控制系统，其特征在于，所述计算方法为：将所述绝对变量参数消除测量得值和标准值的偏移误差。

8.如权利要求6所述的分布式曝光剂量控制系统，其特征在于，所述计算方法为：建立所述间接影响结果参数的校准曲线，并通过查表求得修正后的测量结果，以消除测量值的非线性误差。

9.如权利要求6所述的分布式曝光剂量控制系统，其特征在于，所述计算方法为：对所述直接影响结果参数按正向和反向分别接上一个相同的测量传感器，并将二者得出的测量值相减。

10.如权利要求1所述的分布式曝光剂量控制系统，其特征在于，所述参数组包括：脉冲能量Ep，曝光时间Texp，激光波长WL，激光器单元工作电压Vls，，激光器单元总工作时间Lls，，激光器单元单元温度Tls，，激光器单元触发电压HV，可变衰减器单元镜片位置Pva，可变衰减器单元总工作时间Lva，可变衰减器单元温度Tva，传输光路单元狭缝宽度Wslit，传输光路单元物镜孔径Dpo，传输光路单元镜片位移Dza，传输光路单元总工作时间Ltran，光束导向单元光束X向位置Px，光束导向单元光束Y向位置Py，光束导向单元光束角度Pa，光束导向单元总工作时间Lbst，能量传感器工作电压Vsr，能量传感器采样电流Isr，能量传感器总工作时间Lsr。

11.如权利要求10所述的分布式曝光剂量控制系统，其特征在于，所述最佳曝光剂量与所述激光脉冲之间有以下公式：E_set＝(E_nom·K_laser+B_laser)·K_VA·K_transfer·K_BST·K_env，其中Eset是激光脉冲，Enom是最佳曝光剂量，K_laser是激光器增益因子，Kva是可变衰减器增益因子，Ktransfer是传输光路单元增益因子，Blaser是激光器暗电流漂移，Kbst是光束导向单元增益因子，Kenv是能量传感器增益因子。