[发明专利]液晶曝光装置

说明书

技术领域

本发明涉及曝光装置。例如涉及液晶显示用面板的制造装置、尤其是将掩模上所描绘的图案在玻璃基板上进行曝光的液晶曝光装置。

背景技术

作为显示用面板所使用的液晶显示器装置的TFT(Thin Film Transistor)基板及滤色片基板、等离子体显示器面板用基板以及有机EL(Electroluminescence)显示面板用基板等，利用曝光装置通过光刻蚀技术在基板上形成图案来进行制造。一般而言，曝光装置具备将基板真空吸附进行保持的卡盘，并向卡盘上所保持的基板表面照射透过光掩模的光来进行曝光。

在卡盘中以往就有基板保持面平坦和在基板保持面设置多个销形状的凸部这两者。后者借助于由销形状的凸部用多个点支撑基板，并通过将销形状的凸部以外的部分与基板的空间进行真空吸引而将基板真空吸附进行保持。在这种卡盘中，为了使大型基板均等地进行真空吸附，将销形状的凸部以外的部分与基板的空间分成多个真空区域来进行真空吸引。因此，在基板保持面上设置有用于形成多个真空区域的堤坝部(线条)。

在如玻璃基板等那样光透过的基板中，曝光时透过基板的光在卡盘进行反射，再次透过基板并到达基板的表面，由此将会发生卡盘的表面形状等在基板的表面显像这一现象。此现象被称之为“里面转印”。

在以往的基板保持面平坦的卡盘中，基板里面的污渍堆积于卡盘并因该污渍而发生里面转印。相对于此，在基板保持面设置了销形状的凸部的卡盘中，较少发生污渍堆积所导致的里面转印。

但是，若真空区域的吸附力太强，仿照基板保持面的形状的“里面转印”之类的现象将会发生，为此人们还提出将吸附力按两阶段进行切换的方案。具体而言就是，最初用较强的吸附力很快将基板保持在卡盘上，接着，为了避免“里面转印”而用较弱的吸附力保持基板以减小基板的变形来进行曝光。这里，为了将吸附力按两级进行切换，将设置在真空区域上的吸附孔所结连的真空力切换成高真空和低真空来实现。

通常经由设置于卡盘上的多个上顶销来进行基板向卡盘的搭载。上顶销自卡盘的表面上升，在从机器人等的装卸臂接受基板以后再次下降，将基板放置于卡盘的表面。

在曝光装置上要求减低曝光不良，同时还要求生产节拍时间的缩短以提高大量生产性能。为了缩短生产节拍时间，有效的方法是提高上顶销的下降、上升的速度，将基板很快地设置在卡盘上，并在曝光后迅速地进行拆卸。

但是，若提高销的下降速度将基板靠近于卡盘，则基板与卡盘之间的空气就不会完全地逃到外部，空气残留于基板和卡盘的中央部使基板的中央部鼓起来，将发生平坦度受损之类的问题。

而且，越是提高该速度，空气被关在里面而使中央部很大地鼓起之类的问题越是明显化。因此，为了缩短曝光装置的生产节拍时间，就需要在将基板搭载于卡盘时，将被关在基板与卡盘之间的空气有效地进行排出。因此，人们提出如下卡盘构造：在卡盘表面的非真空区域设置从卡盘的中央连结到左右/上下两端的槽，同时在此槽上设置从卡盘表面侧(基板安装侧)穿到里面(背面)的空气孔，由此使被基板和卡盘所关起来的空气，经由上述槽和空气孔迅速地(有效地)在卡盘的侧面和背面排出空气。这里，空气孔被指定成直径小于等于4毫米以便不会引起“里面转印”。

如前述那样，借助于卡盘表面的堤坝部设置真空区域和非真空区域，并在非真空区域设置有槽和空气孔以迅速地排出使基板接近于卡盘时发生的两者间的空气。另外，人们还提出如下曝光装置：在真空区域设置销状的凸部和吸附孔，通过将吸气孔的真空度切换成高真空和低真空，在将基板安装于卡盘时以较强的吸附力保持基板，迅速地排出空气以缩短生产节拍时间而高速化，然后，在曝光时通过以较弱的吸附力进行保持，使与堤坝部、凸部的接触所导致的接触变形减小，由此减少里面转印、也就是说减少不良发生。

现有技术文献

专利文献

专利文献1日本专利公开特开2007-180125号公报

在文献1的公知例子中，在卡盘整面上设置通过堤坝部所划分的真空区域，为了防止“里面转印”，就需要在此真空区域设置许多销状的凸部以使基板进行点(微小面积)接触，另外，还需要在非真空区域设置许多槽和小径空气孔，这就有卡盘表面的加工变得非常复杂使生产性变差之类的课题。

另外，虽然可以将真空区域的吸附力切换成高真空和低真空，在曝光时减小吸附力使与基板的接触部的变形减小，以确保基板的平坦性，但只要用堤坝部支撑基板并使其吸附接触，就会发生接触部的变形，所以难以完全地确保基板的平坦性。因此，仍存在仿照基板保持面的形状的“里面转印”的可能性。