[发明专利]液晶显示装置及滤光基板

说明书

技术领域

本揭示内容是有关于一种液晶显示装置，且特别是有关一种用于广视角的液晶显示装置。

背景技术

目前的市场上，液晶显示屏幕因为成本低、显示效果佳且技术稳定成为主流的数字显示装置。随着液晶显示技术的发展，各种形式的显示技术不断推出，例如扭转式向列场效应式(Twisted Nematic, TN)与多区域垂直配向式(Multi-domain Vertical Alignment, MVA)的液晶显示器。

在液晶显示模块中，由于液晶盒(LC Cell)夹在上下的透明导电膜之间，其液晶的运动型态，受到上下透明导电膜之间电场与电力线所控制，配合上下偏光膜片，可使来自背光源的光线具有透过性的变化。

但是在高分辨率的广视角液晶显示器，其像素单元非常小，例如，一个具有800 x 480分辨率的3.5英寸液晶显示器，其单一个像素单元大小仅有34.5um x 103.5um，使得光线能透过像素单元的比例(即开口率)很低，以传统的五道光罩制程来说，开口率约仅有38%。

在MVA技术中，透明导电膜上会设置有弯曲波浪状的突起物，然而，上述突起物会造成面板其透过率上的损失。为了提高像素的透过率，目前，广视角显示方式可采用图案垂直配向式(Patterned Vertical Alignment, PVA)，而避免使用具备弯曲波浪状的突起物的MVA技术。主要原因是MVA技术中的突起物会损失透过率，且其外型尺寸受限于光阻与曝光制程而无法微小化(最小宽度约为16um)。相较之下，PVA技术采用具有狭缝或圆洞等狭缝结构(ITO slit)的透明导电膜，其宽度可以达到10um以下。

举实例来说，采用圆形突起物的MVA技术与采用狭缝或圆洞的PVA技术，在4英寸具有800x480分辨率的液晶显示器上的透过率的差异可能超过10%。

但是在PVA制程中，对彩色滤光片基板的透明导电膜进行图案化(开设狭缝或圆洞)制程后，这些圆洞或狭缝会让外界的电场或电力线，进入液晶层内，干扰液晶层当中的液晶行为。尤其是平面切换式(In-Plane Switching, IPS)或边界电场切换(Fringe Field Switching, FFS)等水平电场广视角液晶显示器，其彩色滤光片上并没有透明导电膜，液晶盒非常容易受到外界的电场、电力线的干扰。例如手指触摸该液晶显示器时，手指上的静电荷会残留在液晶显示器表面，而这些静电荷会持续性干扰液晶显示器的正常显示，使该区面板偏白或不均。

也就是说，在滤光基板的透明导电膜上开设有狭缝或圆洞(ITO slit)的各种显示面板，虽然可能具有较高透过率且厚度较薄的优点，但液晶层的显示效果容易因为外部进入的电场或表面上静电荷累积而受到影响。

为了解决上述问题，部份厂商提出在彩色滤光片基板的外部表面增加一透明导电膜并连接至一电位，上述方法虽然可以具有导散静电与电场屏蔽的效果，但是此背面制程方式，往往无法由现有设备机台完成，需要另外进行设备投资与改造。此外，在彩色滤光片基板的外部表面上设置透明导电膜(例如铟锡氧化物ITO导电膜)很可能在制造过程中或使用者操作时发生刮伤或损坏，影响产品的良率与使用寿命。

发明内容

为解决上述问题，本揭示文件所提出的一种滤光基板及其制造方法，其在滤光基板的内侧进行屏蔽设计，可对应多种具有狭缝或圆洞等狭缝结构(ITO slit)设计的显示面板，例如图案垂直配向式(Patterned Vertical Alignment, PVA)、平面切换式(In-Plane Switching, IPS)或边界电场切换(Fringe Field Switching, FFS)等，用以解决显示面板上的静电荷干扰显示问题，且不需采用滤光基板的背面制程，故不需额外进行设备投资与改造，可节省成本。

本揭示内容的一态样是在提供一种滤光基板，其用于液晶显示装置中。该滤光基板包含玻璃基板、遮光矩阵、彩色层、第一透明导电膜以及第二透明导电膜。其中，遮光矩阵设置于该玻璃基板与该彩色层之间。第一透明导电膜上具有至少一个狭缝结构，狭缝结构分别对应该彩色层。第二透明导电膜与第一透明导电膜皆位于该玻璃基板的同一侧。

根据本揭示内容的一实施例，液晶显示装置还包含下基板以及液晶层，液晶层设置于滤光基板与下基板之间，该第二透明导电膜用以对应该液晶层形成完整屏蔽面。于此实施例中，其中该第二透明导电膜设置于该彩色层与该液晶层之间。

根据本揭示内容的一实施例，其中该第二透明导电膜设置于该玻璃基板与该遮光矩阵之间。