[发明专利]复合孔核孔滤膜及其制备方法

权利要求书

1.一种复合孔核孔滤膜，其特征在于：所述核孔滤膜的厚度介于20～30μm之间，核孔为大孔内套有若干小孔的复合孔。

2.根据权利要求1所述的复合孔核孔滤膜，其特征在于膜材核孔的上半部分为大孔，孔径为φ8～φ12μm；下半部分为小孔，孔径为φ1～φ5μm。

3.根据权利要求1所述的复合孔核孔滤膜，其特征在于核孔滤膜的基材选自PET或PC聚酯薄膜。

4.一种复合孔核孔滤膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

采用两种不同质量及能量的高能离子分别对聚酯薄膜的两面进行辐照，首先采用质量较重的高能离子以较低的能量加速后辐照薄膜的一面，使其只穿透薄膜厚度的1/2～2/3，形成柱状损伤区；然后采用质量较轻的高能离子以较高的能量加速后辐照薄膜的另一面，可穿透或不穿透薄膜，形成柱状损伤区；

将质量较轻、能量较高的离子辐照的膜面涂覆一薄层油膜；

将薄膜浸入带超声波装置的碱性蚀刻槽蚀刻，蚀刻时持续以超声波振荡碱性蚀刻液，控制蚀刻时间及蚀刻温度，蚀刻后制得柱状大孔内套有若干小孔的复合孔核孔滤膜，大孔孔径为φ8～φ12μm，小孔孔径为φ1～φ5μm。

5.根据权利要求4所述的复合孔核孔滤膜的制备方法，其特征在于：

所述质量较重的高能离子为氪离子；

所述质量较轻的高能离子为氧离子；

所述较低的能量范围为15～25MeV；

所述较高的能量范围为70～80MeV；

6.根据权利要求4所述的复合孔核孔滤膜的制备方法，其特征在于：所述涂覆一薄层油膜的厚度为2～4μm；

7.根据权利要求4所述的复合孔核孔滤膜的制备方法，其特征在于：所述的超声波振荡频率30～40KHZ，蚀刻时间为10～30min，蚀刻温度为30～50℃。