[发明专利]磁盘用玻璃基板及其制造方法、磁盘

说明书

本申请是申请日为2008的9月26日，申请号为200880022948.X，发明名称为磁盘用玻璃基板及其制造方法、磁盘的发明专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及一种安装于硬盘驱动装置中的磁盘用的玻璃基板及其制造方法。

背景技术

作为安装于硬盘驱动装置(HDD)中的磁记录介质有磁盘。磁盘是在由铝-镁合金等构成的金属基板上被覆NiP膜，或是在玻璃基板及陶瓷基板上层叠磁性层及保护层而制作的。目前，作为磁盘用的基板广泛采用铝合金基板，但是，随着近年来磁盘的小型化、薄片化、高密度记录化，表面的平整度及薄片的强度比铝合金基板更为优良的玻璃基板正得到广泛使用(特开平9-27150号公报)。

近年来，在安装于HDD装置中的磁盘方面，今后要求进一步扩大记录容量，HDD装置的信息的记录速度及读出速度更快。而且，为了满足这些要求，正在寻求使磁盘更高速地转动。

但是，在HDD装置中，当磁盘高速旋转时，由于对磁盘施加大的负荷，因而要求磁盘有高的强度(耐冲击性)。另外，近年来，由于HDD装置例如正在用于笔记本电脑、手机、便携式音乐播放器等便携设备，因而在便携设备掉落的情况下，要求磁盘有不至于损坏的耐冲击性。这样，就要求磁盘(磁盘用基板)满足比现在要求的耐冲击性更高的耐冲击性。

发明内容

本发明是鉴于这样的问题而完成的，其目的在于，提供一种满足比现在所要求的耐冲击性更高的耐冲击性的磁盘用玻璃基板及其制造方法。

本发明的磁盘用玻璃基板，具有主表面及端面，为实施了化学强化处理的圆盘状的磁盘用玻璃基板，其特征在于，所述主表面的最表面部应力层压入长度为49.1μm以下，在巴比涅补偿器法的应力曲线图中，在将所述主表面和压缩应力之间所形成的角设为θ时，{12·t·ln(tanθ)+(49.1/t)}的值y为所述最表面部应力层压入长度以下。

在此，所述最表面部应力层压入长度为用100g的压紧力将对棱角为172°30′和130°的横截面是菱形的金刚石四角锥压头压入所述主表面时的压痕的长的一方的对角线的长度，所述tanθ为根据利用巴比涅补偿器法求出的应力值及应力深度求得的值{(P₁+P₂)/(L₁+L₂)}，所述t为基板厚度。

P₁为压缩应力值，P₂为拉伸应力值，L₁为压缩应力深度，L₂为拉伸应力深度。

根据该结构，由于表层部(距基板表面约1.5μm左右的深度)的压缩应力高、基板内部的深度方向的应力值(压缩应力、拉伸应力)的变化率小，因而可满足比现在所要求的耐冲击性更高的耐冲击性(例如在千分之一秒内承受加速度1500G～2000G)。

在本发明的磁盘用玻璃基板中，优选所述y值为{16·t·ln(tanθ)+(49.1/t)}。

在本发明的磁盘用玻璃基板中，优选构成所述磁盘用玻璃基板的玻璃为含有Zr的铝硅酸盐玻璃。

在本发明的磁盘用玻璃基板中，优选用原子力显微镜测定的所述主表面的表面粗糙度Ra为0.3nm以下。

在本发明的磁盘用玻璃基板中，优选在所述磁盘用玻璃基板的圆周方向按测定长度0.8mm计，所述端面的表面粗糙度Ra为0.2μm以下。

在本发明的磁盘用玻璃基板中，优选压缩应力深度为50μm以上。

本发明的磁盘用玻璃基板的制造方法，是包括对玻璃基板实施了化学强化处理的工序的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，在充分的条件下进行所述化学强化处理，使在所述磁盘用玻璃基板的主表面的最表面部应力层压入长度为49.1μm以下，且在巴比涅补偿器法的应力曲线图中将所述主表面和压缩应力之间所形成的角设为θ时，{12·t·ln(tanθ)+(49.1/t)}的值y为所述最表面部应力层压入长度以下。

在此，所述最表面部应力层压入长度为，用100g的压紧力将对棱角为172°30′和130°的横截面是菱形的金刚石四角锥压头压入所述主表面时的压痕的长的一方的对角线的长度，所述tanθ为根据利用巴比涅补偿器法求出的应力值及应力深度求得的值{(P₁+P₂)/(L₁+L₂)}，所述t为基板厚度；