[发明专利]新型微型热电发生器及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201110206520.4 申请日: 2011-07-22
公开(公告)号: CN102263197A 公开(公告)日: 2011-11-30
发明(设计)人: 吴庆;曹二林;陈岚 申请(专利权)人: 江苏物联网研究发展中心
主分类号: H01L35/28 分类号: H01L35/28;H01L35/32;H01L35/34
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所 32104 代理人: 殷红梅
地址: 214135 江苏省无锡市新区*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 新型 微型 热电 发生器 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种新型微型热电发生器,在所述热电发生器的截面上,包括基板(1);其特征是:所述基板(1)内设有若干贯通基板(1)的隔热腔(9);基板(1)一侧表面上设置支撑层(2),所述支撑层(2)上设有若干交替分布的N型热电材料区及P型热电材料区;支撑层(2)上相邻交替分布的N型热电材料区与P型热电材料区通过导电层连接成等电位,并在支撑层(2)上串接形成热电材料体,所述热电材料体的两端均设置电连接的键合电极(11);热电材料体上淀积有电绝缘层,所述电绝缘层覆盖热电材料体上;电绝缘层上淀积导热层(6),所述导热层(6)的两侧设有隔热部;导热层(6)上设有第一封装体(10),基板(1)对应设置支撑层(2)的另一侧设有第二封装体(20)。

2.根据权利要求1所述的新型微型热电发生器,其特征是:所述支撑层(2)包括生长于基板(1)上的氧化硅层及淀积于所述氧化硅层上的氮化硅层。

3.根据权利要求1所述的新型微型热电发生器,其特征是:所述基板(1)的材料包括硅。

4.根据权利要求1所述的新型微型热电发生器,其特征是:所述N型热电材料区及P型热电材料区通过导电多晶硅掺杂形成或由碲化铋热电材料制成。

5.根据权利要求1所述的新型微型热电发生器,其特征是:所述第一封装体(10)与第二封装体(20)均由陶瓷材料制成。

6.一种新型微型热电发生器的制造方法,其特征是,所述热电发生器的制造方法包括如下步骤:

(a)、提供基板(1),所述基板(1)具有相对应的第一主面与第二主面;

(b)、在所述基板(1)的第一主面上设置支撑层(2);

(c)、在上述支撑层(2)上设置均匀分布的热电材料层,在支撑层(2)上形成交替分布的N型热电材料区及P型热电材料区;

(d)、在所述热电材料层上淀积导电层材料,选择性地掩蔽和刻蚀导电层材料,并形成导电层;上述相邻的N型热电材料区与P型热电材料区通过导电层连接成等电位,并串接成热电材料体,且在热电材料体的两端形成键合电极(11);

(e)、对上述热电材料体及基板(1)进行高温退火工艺,以增强导电层与N型热电材料区及P型热电材料区的电接触;

(f)、在上述热电材料体上淀积电绝缘层材料,所述电绝缘层材料覆盖于支撑层(2)及热电材料体上;

(g)、选择性地掩蔽和刻蚀电绝缘层材料,刻蚀键合电极(11)上的电绝缘层材料,形成电绝缘层;

(h)、在上述电绝缘层上淀积导热层材料,所述导热层材料覆盖于相应的电绝缘层上;

(i)、选择性地掩蔽和刻蚀导热层材料,在电绝缘层上形成导热层(6),所述导热(6)层的两侧设有隔热部;

(j)、对上述基板(1)的第二主面进行光刻,得到贯通基板(1)的隔热腔(9);

(k)、对所述基板(1)的第二主面利用第二封装体(20)进行封装,且基板(1)第一主面上的导热层(6)利用第一封装体(10)进行封装。

7.根据权利要求6所述新型微型热电发生器的制造方法,其特征是:所述步骤(b)中,先通过在基板(1)上生长氧化硅层,并在所述氧化硅层上淀积氮化硅层,以此形成支撑层(2)。

8.根据权利要求6所述新型微型热电发生器的制造方法,其特征是:所述步骤(e)中,退火温度为450度,退火时间为60分钟。

9.根据权利要求6所述新型微型热电发生器的制造方法,其特征是,所述步骤(c)中,热电层材料采用多晶硅时,包括如下步骤:

(s1)、在支撑层(2)上淀积多晶硅层;

(s2)、对上述多晶硅层进行光刻显影,在多晶硅层上注入N型离子,以形成N型热电材料区;

(s3)、对上述多晶硅进行光刻显影,在多晶硅层上注入P型离子,以形成P型热电材料区;

(s4)、刻蚀上述N型热电材料区与P型材料区外的多晶硅层,以使N型热电材料区与P型热电材料区相隔离,且N型热电材料区与P型热电材料区交替分布。

10.根据权利要求6所述新型微型热电发生器的制造方法,其特征是,所述步骤(c)中,热电层材料采用金属热电材料时,包括如下步骤:

(s11)、在支撑层(2)上溅射N型热电金属材料,并通过光刻显影,刻蚀得到N型热电偶区域;

(s12)、在上述支撑层(2)上淀积保护层,所述保护层覆盖于支撑层(2)及N型热电偶区域上;

(s13)、选择性地掩蔽和刻蚀保护层,得到支撑层上的P型热电金属材料区域;

(s14)、在支撑层(2)上溅射P型热电金属材料;

(s15)、对P型热电金属材料进行光刻显影,刻蚀得到P型热电偶区域;

(s16)、在上述保护层、N型热电偶区域及P型热电偶区域上淀积氧化硅介电层;

(s17)、选择性地掩蔽和刻蚀所述氧化硅介电层,得到位于氧化硅介电层上的接触孔,所述接触孔从氧化硅介电层的表面延伸到N型热电偶区域、P型热电偶区域;

(s18)、在上述氧化硅介电层上淀积连接金属层,所述连接金属层填充于接触孔内,并覆盖在氧化硅介电层上;

(s19)、刻蚀所述接触孔外的连接金属层,得到位于接触孔内的通孔连接电极。

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