[发明专利]基板处理装置、基板处理方法、程序和计算机存储媒体

权利要求书

1.一种基板处理装置，其特征在于，包括：

保持基板的保持部；

使被所述保持部保持的基板旋转的旋转驱动部；

使所述保持部在交接位置与周边曝光位置之间移动的移动机构，所述交接位置是与外部之间实施基板的交接的位置，所述周边曝光位置是对在基板上形成的涂敷膜的周边部实施周边曝光处理的位置；

设置于所述周边曝光位置侧，对被所述保持部保持的基板上的涂敷膜的周边部进行曝光的曝光部；

在所述周边曝光位置侧设置于所述曝光部的上方，对被所述保持部保持的基板进行摄像的摄像部；和

设置于所述交接位置与所述周边曝光位置之间，改变在被所述保持部保持的基板与所述摄像部之间形成的光路的方向的方向转换部，其中

所述方向转换部具有：

第一反射镜，其使从所述基板向铅直方向上方反射的光在所述周边曝光位置侧向水平方向反射；

第二反射镜，其使来自所述第一反射镜的光在所述交接位置侧以规定的反射角向斜上方反射；

第三反射镜，其使来自所述第二反射镜的光在所述周边曝光位置侧向水平方向反射，送入所述摄像部。

2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，包括：

检测被所述保持部保持的基板的周边部的位置的位置检测传感器；和

根据所述位置检测传感器的检测结果，以调整基板的周边部的位置的方式控制所述旋转驱动部的控制部。

3.如权利要求1或者2所述的基板处理装置，其特征在于：

所述规定的反射角是小于45度的角度。

4.如权利要求1～3中任一项所述的基板处理装置，其特征在于：

所述曝光部配置在处理容器的内部，

设置于所述曝光部的光源装置配置在所述处理容器的外部。

5.一种基板处理方法，其使用基板处理装置，所述基板处理装置包括：保持基板的保持部；使被所述保持部保持的基板旋转的旋转驱动部；使所述保持部在交接位置与周边曝光位置之间移动的移动机构，所述交接位置是与外部之间实施基板的交接的位置，所述周边曝光位置是对形成于基板上的涂敷膜的周边部实施周边曝光处理的位置；设置于所述周边曝光位置侧，对被所述保持部保持的基板上的涂敷膜的周边部进行曝光的曝光部；在所述周边曝光位置侧设置于所述曝光部的上方，对被所述保持部保持的基板进行摄像的摄像部；和设置于所述交接位置与所述周边曝光位置之间的方向转换部，该方向转换部改变在被所述保持部保持的基板与所述摄像部之间形成的光路的方向，该方向转换部具备：使从所述基板向铅直方向上方反射的光在所述周边曝光位置侧向水平方向反射的第一反射镜、使来自所述第一反射镜的光在所述交接位置侧以规定的反射角向斜上方反射的第二反射镜、和使来自所述第二反射镜的光在所述周边曝光位置侧向水平方向反射而送入所述摄像部的第三反射镜，

所述基板处理方法的特征在于，包括：

周边曝光工序，由移动机构使被所述保持部保持的基板移动到所述周边曝光位置，在该周边曝光位置，由所述旋转驱动部使基板旋转，并从所述曝光部对基板上的涂敷膜的周边部照射光，对该周边部进行曝光；和

检查工序，在所述周边曝光工序之后，在由移动机构使被所述保持部保持的基板从所述周边曝光位置移动到所述交接位置的期间，该基板通过所述方向转换部的下方时，由所述摄像部对基板进行摄像，根据该被摄像的基板的摄像图像检查基板的缺陷。

6.如权利要求5所述的基板处理方法，其特征在于：

所述基板处理装置具备检测被所述保持部保持的基板的周边部的位置的位置检测传感器，

在所述周边曝光工序中，根据所述位置检测传感器的检测结果，由所述旋转驱动部使基板旋转，调整该基板的周边部的位置。

7.如权利要求5或6所述的基板处理方法，其特征在于：

所述规定的反射角是小于45度的角度。

8.一种程序，其特征在于：

该程序在控制部的计算机上运行，所述控制部控制基板处理装置，用于通过基板处理装置执行权利要求5～7中任一项所述的基板处理方法。

9.一种计算机存储媒体，其特征在于：

存储有权利要求8所述的程序并能够读取该程序。