[发明专利]真空电镀玻璃工艺

权利要求书

1.一种真空电镀玻璃工艺，其特征在于：所述工艺采用如下步骤——

(1)玻璃半成品的表面清洁：用清洁药水浸泡玻璃半成品5-10分钟，去除尘埃和油渍；

(2)对玻璃半成品静电除尘；

(3)底漆喷涂：将底漆和半成品均加热到60℃-80℃，流水线线速为6m/min-12m/min，将底漆喷涂在玻璃表面；

(4)紫外线光照：UV灯管与产品距离为15cm-20cm，UV灯管与产品的关键部位或死角部位的距离为10cm-15cm，照射时间为5-10秒；

(5)真空镀膜，膜厚为15nm-500nm，镀膜层为铝层或铬层；

(6)面漆喷涂：将面漆和镀膜成品均加热到60℃-80℃，流水线线速为6m/min-12m/min，将面漆喷涂在镀膜成品表面；

(7)紫外线光照：UV灯管与产品距离为15cm-20cm，UV灯管与产品的关键部位或死角部位的距离为10cm-15cm，照射时间为5-10秒。

2.根据权利要求1所述的真空电镀玻璃工艺，其特征在于：所述步骤(1)中的清洁药水为稀硫酸、正己烷或工业酒精。

3.根据权利要求1所述的真空电镀玻璃工艺，其特征在于：所述步骤(2)中的静电除尘采用静电枪或静电毛刷。

4.根据权利要求1所述的真空电镀玻璃工艺，其特征在于：所述步骤(3)的底漆中包括0.4％-0.6％重量比的佑谦F110附着力促进剂。

5.根据权利要求1所述的真空电镀玻璃工艺，其特征在于：所述步骤(3)和步骤(6)中的喷涂均采用空气喷涂。

6.根据权利要求5所述的真空电镀玻璃工艺，其特征在于：所述步骤(3)和步骤(6)中，压缩空气经油水分离机、冷干机和吸附式干燥机净化后，经空气压缩机形成气流，将底漆或面漆雾化而进行喷涂。

7.根据权利要求5或6所述的真空电镀玻璃工艺，其特征在于：所述步骤(3)和步骤(6)的喷涂采用如下参数——空气压力为0.25Mpa-0.35Mpa，喷枪口径为1.0mm-1.3mm，喷枪与玻璃表面的距离为10cm-15cm，漆雾雾化张角为15°-75°。

8.根据权利要求1所述的真空电镀玻璃工艺，其特征在于：所述步骤(1)中的清洁药水为稀硫酸、正己烷或工业酒精，所述步骤(2)中的静电除尘采用静电枪或静电毛刷，所述步骤(3)的底漆中包括0.4％-0.6％重量比的佑谦f110附着力促进剂。

9.根据权利要求8所述的真空电镀玻璃工艺，其特征在于：所述步骤(3)和步骤(6)中的喷涂均采用空气喷涂，压缩空气经油水分离机、冷干机和吸附式干燥机净化后，经空气压缩机形成气流，将底漆或面漆雾化而进行喷涂。

10.根据权利要求9所述的真空电镀玻璃工艺，其特征在于：所述步骤(3)和步骤(6)的喷涂采用如下参数——空气压力为2.5-3.5Mpa，喷枪口径为1.0mm-1.3mm，喷枪与玻璃表面的距离为10cm-15cm，漆雾雾化张角为15°-75°。