[发明专利]含锡锑中间层的钌钯钴涂层钛电极无效
| 申请号： | 201110195199.4 | 申请日： | 2011-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN102268688A | 公开（公告）日： | 2011-12-07 |
| 发明（设计）人： | 安立超;卢强 | 申请（专利权）人： | 南京理工大学 |
| 主分类号： | C25B11/04 | 分类号： | C25B11/04;C25B11/10 |
| 代理公司： | 南京理工大学专利中心 32203 | 代理人： | 朱显国 |
| 地址： | 210094 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 含锡锑 中间层 钌钯钴 涂层 电极 | ||
【权利要求书】：
1.一种含锡锑中间层的钌钯钴涂层钛电极，其特征在于：钛板主体[1]表面有若干层锡锑氧化物涂层[2]作为中间层，中间层表面有若干层钌钯钴氧化物涂层[3]作为表层；钌钯钴氧化物涂层[3]的组分形式为二氧化钌RuO2、氧化钯PdO、氧化钴CoO和氧化钴Co2O3，电极表层组分摩尔配比为n(Ru): n(Pd): n(Co)=1:(0.5~5):(0.35~3.5)。
2.根据权利要求1所述的含锡锑中间层的钌钯钴涂层钛电极，其特征在于：所述锡锑氧化物涂层[2]为3-7层，钌钯钴氧化物涂层[3]为15-24层。
3.根据权利要求1所述的含锡锑中间层的钌钯钴涂层钛电极，其特征在于：烧结温度为T=300~600℃。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京理工大学，未经南京理工大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110195199.4/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种糖醋蒜的浸泡液及其制作方法
- 下一篇：一种钓鲫鱼饵的配制方法
