[发明专利]一种光波导轴向均匀的光纤预制棒制作方法

权利要求书

1.一种光波导轴向均匀的光纤预制棒制作方法，其特征是包括以下步骤：

A、采用管内化学气相沉积方法制备芯棒，经轴向控制使芯棒各层的归一化尺寸和折射率一致；

B、将芯棒延伸制成靶棒；

C、采用轴向化学气相沉积法在靶棒上制备SiO₂粉尘外包层，经轴向控制沉积由光纤波导的归一化尺寸决定的外包层，将疏松的SiO₂粉尘外包层烧结致密化即得到光纤波导均匀的预制棒；

其中，归一化尺寸为各层相对于其中一层的比例系数。

2.根据权利要求1所述的光波导轴向均匀的光纤预制棒制作方法，其特征是：所述的管内化学气相沉积方法是将原料气体通入石英玻璃基管中，在高温条件下进行化学反应得到粉尘沉积到基管内表面，当芯棒的包层和芯层沉积完毕后，在更高温度下使基管、芯棒的包层和芯层塌缩成一实心玻璃棒成为芯棒。

3. 根据权利要求1所述的光波导轴向均匀的光纤预制棒制作方法，其特征是：根据目标预制棒的外径和芯棒的收缩比例设定延伸目标来延伸芯棒制成靶棒。

4. 根据权利要求1所述的光波导轴向均匀的光纤预制棒制作方法，其特征是：所述的轴向化学气相沉积法在靶棒上制备SiO₂粉尘外包层是将反应原料通入输送系统送入沉积腔，用火焰水解反应产生SiO₂粉尘，SiO₂粉尘沉积在靶棒上形成疏松的SiO₂粉尘外包层。

5. 根据权利要求1或4所述的光波导轴向均匀的光纤预制棒制作方法，其特征是：根据靶棒的规格尺寸数据以及光纤波导归一化尺寸的要求设定需要的外包层及沉积外包层时对靶棒的提升速度，对靶棒的提升速度为外包层的沉积重量除以沉积速度所得的商。

6. 根据权利要求5所述的光波导轴向均匀的光纤预制棒制作方法，其特征是：靶棒的提升速度V=0.579W/(G_i²·Ro_i²-Ro²)，其中W为SiO₂粉尘的沉积速度，G_i为光纤外径对第i层的归一化结构系数，Ro、Ro_i分别为靶棒和靶棒第i层的直径。